发明授权
- 专利标题： 用于形成抗反射结构的叠层转印膜
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申请号： CN201580004713.8申请日： 2015-01-09
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公开(公告)号： CN105917253B公开(公告)日： 2018-01-16
- 发明人: 迈克尔·本顿·弗里 , 贾斯廷·P·迈尔 , 奥勒斯特尔·小本森 , 特里·O·科利尔 , 米奇斯瓦夫·H·马祖雷克 , 埃文·L·施瓦茨 , 马丁·B·沃尔克 , 摩西·M·大卫
- 申请人： 3M创新有限公司
- 申请人地址： 美国明尼苏达州
- 专利权人： 3M创新有限公司
- 当前专利权人： 3M创新有限公司
- 当前专利权人地址： 美国明尼苏达州
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 王静; 丁业平
- 优先权： 14/159,253 2014.01.20 US
- 国际申请： PCT/US2015/010730 2015.01.09
- 国际公布： WO2015/122975 EN 2015.08.20
- 进入国家日期： 2016-07-15
- 主分类号： G02B1/118
- IPC分类号： G02B1/118 ; B32B37/02 ; B32B38/10 ; C03C17/30
摘要：
本公开涉及用于形成具有抗反射结构的制品的叠层转印膜以及形成这些叠层转印膜的方法。转印膜包括载体膜、牺牲模板层和热稳定回填层，该牺牲模板层设置在载体膜上并且具有抗反射纳米结构模板特征结构，该热稳定回填层具有符合抗反射纳米结构模板特征结构的第一表面和相对的平坦第二表面。
公开/授权文献
- CN105917253A 用于形成抗反射结构的叠层转印膜 公开/授权日：2016-08-31
