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公开(公告)号：CN101448640A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200780018248.9
申请日：2007-05-09
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 马丁·B·沃尔克 , 托马斯·R·小霍芬德 , 斯蒂芬·A·约翰逊 , 约翰·P·贝茨尔德 , 理查德·J·汤普森 , 特伦斯·D·尼维恩 , 迈克尔·A·哈泽 , 谢尔盖·A·拉曼斯基
IPC分类号： B32B27/20
CPC分类号： B41M5/465 , Y10S428/913 , Y10S430/165 , Y10T428/31
摘要： 本发明提供基底膜、热质转印供体元件、以及制备和使用所述基底膜与所述热质转印供体元件的方法。在一些实施例中，此类基底膜和供体元件包括至少两个成对层，其中每个成对层都包括吸收性第一层和基本非吸收性的第二层。本发明还提供制备供体元件的方法，所述供体元件包括基本非吸收性的基底、吸收性第一层、和非吸收性的第二层，其中所述基本非吸收性的基底的组成与所述基本非吸收性的第二层的组成基本相同。
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公开(公告)号：CN105917253B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201580004713.8
申请日：2015-01-09
申请人： 3M创新有限公司
CPC分类号： C23C16/50 , B32B37/025 , B32B38/10 , B32B2037/243 , B32B2307/40 , B32B2551/00 , C03C17/30 , C03C2217/732 , C03C2217/77 , C23C16/0236 , G02B1/02 , G02B1/118 , Y10T156/10 , Y10T428/24355
摘要： 本公开涉及用于形成具有抗反射结构的制品的叠层转印膜以及形成这些叠层转印膜的方法。转印膜包括载体膜、牺牲模板层和热稳定回填层，该牺牲模板层设置在载体膜上并且具有抗反射纳米结构模板特征结构，该热稳定回填层具有符合抗反射纳米结构模板特征结构的第一表面和相对的平坦第二表面。
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公开(公告)号：CN105917253A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201580004713.8
申请日：2015-01-09
申请人： 3M创新有限公司
CPC分类号： C23C16/50 , B32B37/025 , B32B38/10 , B32B2037/243 , B32B2307/40 , B32B2551/00 , C03C17/30 , C03C2217/732 , C03C2217/77 , C23C16/0236 , G02B1/02 , G02B1/118 , Y10T156/10 , Y10T428/24355
摘要： 本公开涉及用于形成具有抗反射结构的制品的叠层转印膜以及形成这些叠层转印膜的方法。转印膜包括载体膜、牺牲模板层和热稳定回填层，该牺牲模板层设置在载体膜上并且具有抗反射纳米结构模板特征结构，该热稳定回填层具有符合抗反射纳米结构模板特征结构的第一表面和相对的平坦第二表面。
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公开(公告)号：CN1898996A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200480038798.3
申请日：2004-11-16
申请人： 3M创新有限公司
CPC分类号： H01L27/322
摘要： 本发明公开一种制造电致发光器件的方法，所述电致发光器件包括一个或多个滤色器。在一个实施方案中，该方法包括在基板上形成电致发光元件。该方法还包括选择性地热转印多个滤色器。
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公开(公告)号：CN112997273A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201980071998.5
申请日：2019-11-08
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 亨里克·B·万伦格里希 , 卡尔·K·斯腾斯瓦德 , 埃德文·L·库西勒克 , 马修·S·斯泰 , 卡尔布·T·尼尔森 , 克里斯托弗·S·莱昂斯 , 莫塞斯·M·大卫 , 杰弗里·L·所罗门 , 马丁·B·沃尔克 , 尼古拉斯·C·埃里克森 , 詹姆斯·朱 , 詹姆斯·M·尼尔森
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/00 , B82Y40/00 , G03F7/00
摘要： 本发明公开了可用于在基底上形成纳米级特征的材料和方法，以及结合有此类纳米级图案化基底的制品诸如光学膜。
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公开(公告)号：CN106794659A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580045861.4
申请日：2015-08-26
申请人： 3M创新有限公司
IPC分类号： B32B3/30 , B32B17/10 , B32B27/36 , B32B27/06 , B32B37/06 , B32B37/26 , B32B38/16 , B32B37/10 , B32B38/00 , C03C17/42 , H01L51/56 , H01L51/52
CPC分类号： H01L51/56 , B32B3/263 , B32B3/28 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B2255/10 , B32B2255/20 , B32B2307/516 , B32B2457/20 , B44C1/00 , C03C17/007 , C03C17/42 , C03C2217/40 , H01L21/477 , H01L51/00 , H01L51/003 , H01L51/502 , H01L51/5268 , H01L51/5271 , H01L51/5275 , H01L2251/301 , H01L2251/5369 , Y10S977/90
摘要： 本发明提供了用于使用转印膜将纳米颗粒和纳米线转印到持久玻璃受体的方法。所述转印膜包括在牺牲材料内的纳米颗粒，所述牺牲材料在基板上具有结构化回填层并且在牺牲基板之间具有纳米线制剂。为了转印所述纳米颗粒，将所述转印膜层合到玻璃受体，去除所述基板，并烘除所述牺牲材料，以将对准的所述纳米颗粒留在所述玻璃受体上的所述回填层的所述结构化表面内。为了转印所述纳米线，将所述转印膜层合到玻璃受体，并烘除所述牺牲基板，以将对准的所述纳米线留在所述玻璃受体上。
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公开(公告)号：CN102712140A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201180005934.9
申请日：2011-01-13
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 马丁·B·沃尔克 , 威廉·布雷克·科尔布 , 迈克尔·本顿·弗里 , 奥德蕾·A·舍曼 , 约翰·A·惠特利 , 大卫·斯科特·汤普森 , 郝恩才 , 马修·S·斯泰
CPC分类号： B05D3/007 , B05D1/265 , B05D3/067 , B05D3/12 , B05D2201/02 , B05D2503/00 , B29C35/0888 , B29C35/10 , B29C59/046 , B29C67/202 , B29C2035/0827 , B29D11/0073 , B29D11/00865 , B29K2075/00 , B29K2105/162 , G02B5/0231 , G02B5/0268 , G02B2207/107 , Y10T428/24355
摘要： 本发明提供了一种微结构化制品，所述制品包括具有相背的第一和第二主表面的纳米空隙层，所述第一主表面被微结构化而形成棱镜、透镜或其他特征物。所述纳米空隙层包含聚合物粘合剂和多个互连的空隙以及任选的多个纳米粒子。可包括粘弹性层或聚合物树脂层的第二层设置在所述第一或第二主表面上。一种相关的方法包括将涂层溶液设置到基底上。所述涂层溶液包含可聚合材料、溶剂和可选的纳米粒子。所述方法包括在所述涂层溶液接触微复制工具的同时，聚合所述可聚合材料，以形成微结构化层。所述方法还包括将溶剂从所述微结构化层移除以形成纳米空隙微结构化制品。
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公开(公告)号：CN116710272A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202180085776.6
申请日：2021-12-15
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 马丁·B·沃尔克 , 罗伯特·L·布劳特 , 凯文·W·戈特里克 , 克里斯托夫·S·里昂 , 凯莱布·T·纳尔逊 , 瓦迪姆·萨瓦蒂夫 , 詹姆斯·M·纳尔逊 , 克雷格·R·沙尔特 , 杰佛瑞·L·所罗门 , 卡尔·K·斯滕斯瓦德 , 史蒂文·D·泰斯
IPC分类号： B32B9/00
摘要： 一种用于在基底上形成图案的结构化膜，包括：聚合物支撑层；粘合剂层；抗蚀层，该抗蚀层设置在该聚合物支撑层与该粘合剂层之间；结构化树脂层，该结构化树脂层设置在该聚合物支撑层与该抗蚀层之间；和一个或多个非结构化层，该一个或多个非结构化层设置在该抗蚀层与该粘合剂层之间。该结构化树脂层具有结构化主表面，该结构化主表面包括多个工程化结构。该抗蚀层至少部分地填充相邻的工程化结构之间的空间以使该结构化主表面基本上平坦化。描述了使用该结构化膜在基底上形成图案的方法。
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公开(公告)号：CN109415584A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780040576.2
申请日：2017-06-15
申请人： 3M创新有限公司
IPC分类号： C09D127/12 , B05D7/04 , B05D1/00 , C08J7/04
摘要： 本发明公开了一种在基底的主表面上的有机氟涂层，其中所述有机氟涂层具有约5原子％至约15原子％的氧和约30原子％至约50原子％的氟的表面组成。
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公开(公告)号：CN102712140B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201180005934.9
申请日：2011-01-13
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 马丁·B·沃尔克 , 威廉·布雷克·科尔布 , 迈克尔·本顿·弗里 , 奥德蕾·A·舍曼 , 约翰·A·惠特利 , 大卫·斯科特·汤普森 , 郝恩才 , 马修·S·斯泰
CPC分类号： B05D3/007 , B05D1/265 , B05D3/067 , B05D3/12 , B05D2201/02 , B05D2503/00 , B29C35/0888 , B29C35/10 , B29C59/046 , B29C67/202 , B29C2035/0827 , B29D11/0073 , B29D11/00865 , B29K2075/00 , B29K2105/162 , G02B5/0231 , G02B5/0268 , G02B2207/107 , Y10T428/24355
摘要： 本发明提供了一种微结构化制品，所述制品包括具有相背的第一和第二主表面的纳米空隙层，所述第一主表面被微结构化而形成棱镜、透镜或其他特征物。所述纳米空隙层包含聚合物粘合剂和多个互连的空隙以及任选的多个纳米粒子。可包括粘弹性层或聚合物树脂层的第二层设置在所述第一或第二主表面上。一种相关的方法包括将涂层溶液设置到基底上。所述涂层溶液包含可聚合材料、溶剂和可选的纳米粒子。所述方法包括在所述涂层溶液接触微复制工具的同时，聚合所述可聚合材料，以形成微结构化层。所述方法还包括将溶剂从所述微结构化层移除以形成纳米空隙微结构化制品。
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