发明授权
- 专利标题： 光刻系统
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申请号： CN201580010247.4申请日： 2015-01-23
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公开(公告)号： CN106062636B公开(公告)日： 2018-11-30
- 发明人: 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , M·库珀厄斯 , A·M·雅库尼恩
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 吴敬莲
- 优先权： 14156364.3 2014.02.24 EP
- 国际申请： PCT/EP2015/051352 2015.01.23
- 国际公布： WO2015/124372 EN 2015.08.27
- 进入国家日期： 2016-08-24
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本发明公开了一种光刻系统，包括：具有失真投影系统(PS)的光刻设备(LA)；和辐射源(SO)，所述辐射源被配置为在等离子体形成位置(4)处生成发射EUV辐射的等离子体，发射EUV辐射的等离子体在基本上垂直于辐射源(SO)的光轴(OA)的平面内具有细长形状。
公开/授权文献
- CN106062636A 光刻系统 公开/授权日：2016-10-26
IPC分类:
