- 专利标题: 一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法
- 专利标题(英): Alkalescence polishing liquid for ruthenium blocking layer and preparation method of liquid
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申请号: CN201610542485.6申请日: 2016-07-11
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公开(公告)号: CN106118492A公开(公告)日: 2016-11-16
- 发明人: 王辰伟 , 刘玉岭 , 郑环 , 周建伟 , 高宝红
- 申请人: 河北工业大学
- 申请人地址: 天津市红桥区号丁字沽光荣道8号
- 专利权人: 河北工业大学
- 当前专利权人: 河北工业大学
- 当前专利权人地址: 天津市红桥区号丁字沽光荣道8号
- 代理机构: 天津市三利专利商标代理有限公司
- 代理商 李蕊
- 主分类号: C09G1/02
- IPC分类号: C09G1/02 ; C23F3/04
摘要:
本发明涉及一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法,所述抛光液由下述组分组成,按重量百分比计硅溶胶1—5%,乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)0.5‑5%,过氧化氢0.5‑4%,非离子界表面活性剂0.1‑10%,去离子水余量;所述碱性抛光液的pH值为9—13;所述抛光液可以使Ru和Cu达到较高的抛光速率,抛光过程中化学作用增强明显,可控性高,可以使Ru和Cu达到良好的速率选择比;在抛光过程中Ru和Cu的电偶腐蚀低,可以有效抑制降低电偶腐蚀;抛光之后表面光滑平坦,全局平坦性高,粗糙度小;污染小,提高器件的可靠性,高pH值条件下仍旧稳定,且后清洗简单。
公开/授权文献
- CN106118492B 一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法 公开/授权日:2018-11-06