一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法
摘要:
本发明涉及一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法,所述抛光液由下述组分组成,按重量百分比计硅溶胶1—5%,乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)0.5‑5%,过氧化氢0.5‑4%,非离子界表面活性剂0.1‑10%,去离子水余量;所述碱性抛光液的pH值为9—13;所述抛光液可以使Ru和Cu达到较高的抛光速率,抛光过程中化学作用增强明显,可控性高,可以使Ru和Cu达到良好的速率选择比;在抛光过程中Ru和Cu的电偶腐蚀低,可以有效抑制降低电偶腐蚀;抛光之后表面光滑平坦,全局平坦性高,粗糙度小;污染小,提高器件的可靠性,高pH值条件下仍旧稳定,且后清洗简单。
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