公开(公告)号：CN106118492B

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201610542485.6

申请日：2016-07-11

申请人： 河北工业大学

发明人： 王辰伟 ,  刘玉岭 ,  郑环 ,  周建伟 ,  高宝红

IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/04

摘要： 本发明涉及一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法，所述抛光液由下述组分组成，按重量百分比计硅溶胶1—5％，乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)0.5‑5％，过氧化氢0.5‑4％，非离子界表面活性剂0.1‑10％，去离子水余量；所述碱性抛光液的pH值为9—13；所述抛光液可以使Ru和Cu达到较高的抛光速率，抛光过程中化学作用增强明显，可控性高，可以使Ru和Cu达到良好的速率选择比；在抛光过程中Ru和Cu的电偶腐蚀低，可以有效抑制降低电偶腐蚀；抛光之后表面光滑平坦，全局平坦性高，粗糙度小；污染小，提高器件的可靠性，高pH值条件下仍旧稳定,且后清洗简单。

公开(公告)号：CN106118492A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201610542485.6

申请日：2016-07-11

申请人： 河北工业大学

发明人： 王辰伟 ,  刘玉岭 ,  郑环 ,  周建伟 ,  高宝红

IPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/04

CPC分类号： C09G1/02 ,  C23F3/04

摘要： 本发明涉及一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法，所述抛光液由下述组分组成，按重量百分比计硅溶胶1—5％，乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)0.5‑5％，过氧化氢0.5‑4％，非离子界表面活性剂0.1‑10％，去离子水余量；所述碱性抛光液的pH值为9—13；所述抛光液可以使Ru和Cu达到较高的抛光速率，抛光过程中化学作用增强明显，可控性高，可以使Ru和Cu达到良好的速率选择比；在抛光过程中Ru和Cu的电偶腐蚀低，可以有效抑制降低电偶腐蚀；抛光之后表面光滑平坦，全局平坦性高，粗糙度小；污染小，提高器件的可靠性，高pH值条件下仍旧稳定,且后清洗简单。