发明公开
- 专利标题: 半导体用铜合金接合线
- 专利标题(英): Copper alloy bonding wire for semiconductor
-
申请号: CN201610480089.5申请日: 2010-06-23
-
公开(公告)号: CN106119595A公开(公告)日: 2016-11-16
- 发明人: 宇野智裕 , 寺岛晋一 , 山田隆 , 小田大造
- 申请人: 新日铁住金高新材料株式会社 , 日铁住金新材料股份有限公司
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 新日铁住金高新材料株式会社,日铁住金新材料股份有限公司
- 当前专利权人: 日铁化学材料株式会社,日铁住金新材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 杨光军; 段承恩
- 优先权: 2009-150206 2009.06.24 JP
- 分案原申请号: 2010800247729 2010.06.23
- 主分类号: C22C9/00
- IPC分类号: C22C9/00 ; C22F1/08 ; H01L21/60 ; H01L23/49 ; C22F1/00
摘要:
本发明的目的是提供一种材料费便宜、在高湿高温环境下的PCT可靠性优异,而且热循环试验的TCT可靠性、球压接形状、楔接合性、环路形成性等也良好的半导体元件用铜系接合线。本发明的半导体用铜合金接合线,其特征在于,是将铜合金拉丝加工而成的,所述铜合金含有0.13~1.15质量%的Pd,其余量为铜和不可避免的杂质。