- 专利标题: 基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法
- 专利标题(英): Clearing system and clearing method based on microwave ionization for surface contamination of dielectric film layer
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申请号: CN201610879881.8申请日: 2016-10-09
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公开(公告)号: CN106311682A公开(公告)日: 2017-01-11
- 发明人: 任攀 , 吴凡 , 张家雷 , 王伟平 , 张宁
- 申请人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
- 申请人地址: 四川省绵阳市绵山路64号
- 专利权人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
- 当前专利权人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
- 当前专利权人地址: 四川省绵阳市绵山路64号
- 代理机构: 成都行之专利代理事务所
- 代理商 冯龙
- 主分类号: B08B7/00
- IPC分类号: B08B7/00 ; B08B5/00 ; B08B11/00
摘要:
本发明公开了一种基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法,包括样品仓,所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源,氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接,微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统及方法针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁,同时不对膜层造成损伤,保持光学元件的性能符合要求,不会有残留物,也不会造成二次污染。
公开/授权文献
- CN106311682B 基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法 公开/授权日:2018-11-13