-
公开(公告)号：CN1749810A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200510021563.X
申请日：2005-08-30
申请人： 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 本发明提供了一种手性液晶退偏器及其制备方法。本发明的手性液晶退偏器包括光学透明材料(1、2)，在光学透明材料(2)上加工有楔形或梯形槽阵列，并涂敷形成取向膜(3、5)，并诱导手性液晶自组织成为具有晶体特征的结构；光学透明材料(1、2)贴合形成具有楔形或梯形空腔的液晶盒，液晶盒内灌注具有旋光性质的手性分子和具有双折射特性的液晶组成的混合物(6)。当手性液晶退偏器为单楔形结构时还包括控制楔角的垫片(4)。手性液晶退偏器兼具楔形晶体退偏器和旋光晶体退偏器的特点，可在宽光谱范围内实现单色光退偏，且对任意方向的入射偏振光都有很好的退偏效果。本发明制作工艺简单，成本大幅度降低，特别是对于大口径光束退偏优势更加明显。
-
公开(公告)号：CN106311682B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201610879881.8
申请日：2016-10-09
申请人： 中国工程物理研究院流体物理研究所
摘要： 本发明公开了一种基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法，包括样品仓，所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源，氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接，微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统及方法针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁，同时不对膜层造成损伤，保持光学元件的性能符合要求，不会有残留物，也不会造成二次污染。
-
公开(公告)号：CN101520565A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200910058112.1
申请日：2009-01-09
申请人： 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC分类号： G02F1/1333 , G02B1/10 , G02F1/1337 , B08B3/12
摘要： 本发明提供了一种快速响应液晶光开关及其制备方法。本发明的快速响应液晶光开关，是利用电场改变Fabry－Perot腔内液晶的有效折射率，来调制入射激光的光通量。本发明的快速响应液晶光开关包括光学透明材料，以及在光学透明材料表面设置的反射膜层，两反射膜层形成Fabry－Perot腔；在反射膜层上设置透明电极膜层，控制信号在两透明电极膜层之间形成驱动电场；在透明电极膜层上设置设置取向膜层，对取向膜层进行摩擦处理，且两取向膜层的摩擦取向方向平行；在两取向膜层之间形成的空腔内设置液晶膜层，液晶分子在取向膜层的诱导下自组织为具有晶体特征的结构。本发明的快速响应液晶光开关适用于高刷新率、大屏幕、低功耗的液晶显示或紧凑型的光电开关等领域。
-
公开(公告)号：CN106311682A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610879881.8
申请日：2016-10-09
申请人： 中国工程物理研究院流体物理研究所
CPC分类号： B08B7/0035 , B08B5/00 , B08B11/00
摘要： 本发明公开了一种基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法，包括样品仓，所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源，氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接，微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统及方法针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁，同时不对膜层造成损伤，保持光学元件的性能符合要求，不会有残留物，也不会造成二次污染。
-
公开(公告)号：CN100353216C
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200510021563.X
申请日：2005-08-30
申请人： 中国工程物理研究院流体物理研究所
摘要： 本发明提供了一种手性液晶退偏器及其制备方法。本发明的手性液晶退偏器包括光学透明材料，在光学透明材料上加工有楔形或梯形槽阵列，并涂敷形成取向膜，并诱导手性液晶自组织成为具有晶体特征的结构；光学透明材料贴合形成具有楔形或梯形空腔的液晶盒，液晶盒内灌注具有旋光性质的手性分子和具有双折射特性的液晶组成的混合物。当手性液晶退偏器为单楔形结构时还包括控制楔角的垫片。手性液晶退偏器兼具楔形晶体退偏器和旋光晶体退偏器的特点，可在宽光谱范围内实现单色光退偏，且对任意方向的入射偏振光都有很好的退偏效果。本发明制作工艺简单，成本大幅度降低，特别是对于大口径光束退偏优势更加明显。
-
-
-
-
搜索结果
5 条记录 (耗时 0.051 秒)