发明公开
CN106338892A 一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法
- 专利标题(英): Exposure machine, exposure method and shifting control method of transparent alignment part
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申请号: CN201610951540.7申请日: 2016-11-01
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公开(公告)号: CN106338892A公开(公告)日: 2017-01-18
- 发明人: 史高飞 , 张俊 , 周如 , 杨丽娟 , 刘承娜
- 申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号
- 专利权人: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明实施例提供一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法,属于显示技术领域,能够解决UV掩膜版制作的遮光板的型号特定、UV掩膜版的利用率过低的问题。包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台,遮光板载台连接第一定位装置,并可在第一定位装置的带动下在水平面上移动,机架上还设置有透明对位件,透明对位件上设置有对位标,透明对位件通过第二定位装置设置于遮光板载台和掩膜版载台之间,第二定位装置可带动透明对位件在水平面上移动。
公开/授权文献
- CN106338892B 一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法 公开/授权日:2018-05-08
IPC分类: