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公开(公告)号：CN106338892B
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201610951540.7
申请日：2016-11-01
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明实施例提供一种曝光机、曝光的方法以及透明对位件的移位控制方法，属于显示技术领域，能够解决UV掩膜版制作的遮光板的型号特定、UV掩膜版的利用率过低的问题。包括设置在机架上的遮光板载台、第一定位装置以及掩膜版载台，遮光板载台连接第一定位装置，并可在第一定位装置的带动下在水平面上移动，机架上还设置有透明对位件，透明对位件上设置有对位标，透明对位件通过第二定位装置设置于遮光板载台和掩膜版载台之间，第二定位装置可带动透明对位件在水平面上移动。
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公开(公告)号：CN105843448B
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201610162059.X
申请日：2016-03-21
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本发明公开了一种触控显示基板和触控显示装置，涉及显示技术领域，解决了触控显示装置的灵敏度不高的技术问题。该触控显示基板包括多个触控电极，所述多个触控电极分为至少一个触控电极对，每个所述触控电极对均包括相邻的第一触控电极和第二触控电极，所述第一触控电极包括第一弯折部和/或第一弯曲部，所述第二触控电极包括第二弯折部和/或第二弯曲部，且所述第二弯折部与所述第一弯折部相匹配，所述第二弯曲部与所述第一弯曲部相匹配。本发明中的触控显示基板应用于触控显示装置中。
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公开(公告)号：CN109976595A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201910229126.9
申请日：2019-03-25
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06F3/044
摘要： 本发明提供一种触控基板，包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的触控单元层，所述触控单元层包括排列为多行多列的多个触控单元，每个触控单元都包括x触控子单元和y触控子单元。所述x触控子单元包括第一电容和位于所述第一电容的电极之间的第一磁感应介质块，所述y触控子单元包括第二电容和位于所述第二电容的电极之间的第二磁感应介质块。所述第一磁感应介质块和所述第二磁感应介质块均由磁感应介质材料制成，所述磁感应介质材料的介电常数随环境磁场的变化而变化。本发明提供的触控基板仅通过感应手指产生的生物磁场即可定位手指位置，使用时手指无需接触触控基板，提高了用户体验。
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公开(公告)号：CN109557713A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201910031490.4
申请日：2019-01-14
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1337 , G02F1/1343 , G02F1/1333
摘要： 本发明实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示面板。显示基板包括基底、设置在所述基底上的显示结构层和配向层；所述显示结构层中设置有光栅偏光层，所述配向层的光配向方向与所述光栅偏光层的透光轴方向平行或垂直。本发明通过在显示基板中设置光栅偏光层，实现了配向层与偏光片两层之间的自对准，彻底消除了现有结构容易出现的偏光片的透光轴方向与配向层的配向方向偏移的情况，有效解决了现有结构存在的暗态漏光、透光效率低和对比度低等问题，提高了光透过效率和对比度。同时，本发明能够对显示基板进行多个方向的配向处理，不仅可以实现双畴或多畴像素结构，而且便于MMG技术的实施。
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公开(公告)号：CN105044940B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201510467991.9
申请日：2015-07-29
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种面板及其测试方法，以解决现有技术存在的对触控电极层的测试复杂度高的问题。面板包括多个显示面板和测试线、第一测试垫和第二测试垫；显示面板包括具有驱动信号输入引脚和通道间电容值输出引脚以及交替排列的第一通道和第二通道的触控电极层，第一通道与驱动信号输入引脚相绑定，第二通道与通道间电容值输出引脚相绑定，第一通道和与其相邻的第二通道形成通道对；测试线包括用于连接第一测试垫和驱动信号输入引脚的第一测试线和用于连接第二测试垫和通道间电容值输出引脚的第二测试线；针对任一通道对，在向与其第一通道连接的第一测试垫输入驱动信号时能从与其第二通道连接的第二测试垫输出其第一通道和第二通道间的电容值。
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公开(公告)号：CN105843448A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201610162059.X
申请日：2016-03-21
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本发明公开了一种触控显示基板和触控显示装置，涉及显示技术领域，解决了触控显示装置的灵敏度不高的技术问题。该触控显示基板包括多个触控电极，所述多个触控电极分为至少一个触控电极对，每个所述触控电极对均包括相邻的第一触控电极和第二触控电极，所述第一触控电极包括第一弯折部和/或第一弯曲部，所述第二触控电极包括第二弯折部和/或第二弯曲部，且所述第二弯折部与所述第一弯折部相匹配，所述第二弯曲部与所述第一弯曲部相匹配。本发明中的触控显示基板应用于触控显示装置中。
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公开(公告)号：CN105045048A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510591090.0
申请日：2015-09-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
发明人： 史高飞
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种曝光基台和曝光设备。该曝光基台包括底座以及设置在底座上的多个基台本体和多个举起部，基台本体与举起部交错并间隔设置，基台本体用于承载待曝光基板；举起部用于将待曝光基板传送至基台本体上，基台本体包括靠近举起部设置的第一结构，举起部包括位于其用于与待曝光基板相接触一端的第二结构，第一结构和第二结构相互配合能使照射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线照射至第一结构上。该曝光基台能使入射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线发生反射的光程差减小，从而使该曝光基台在对应间隔区域的区域和对应基台本体承载面的区域对待曝光基板的曝光更加均匀。
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公开(公告)号：CN104597657A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201510092048.4
申请日：2015-02-28
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1333
CPC分类号： G02F1/133516 , C23C14/086 , C23C14/14 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C14/5873 , G02B1/14 , G02B5/003 , G02B5/201 , G02B5/3033 , G02F1/133512 , G02F1/133528 , G03F7/0005 , G03F7/20 , G03F7/30 , G06F3/0412 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G02F1/13338
摘要： 本发明涉及一种彩膜基板及其制作方法，一种显示装置及其制作方法，彩膜基板包括设置在基底一侧的彩膜层，设置在基底另一侧的导电层，导电层包括多个导电区域，每个导电区域包括驱动通道和感应通道，同一导电区域中的驱动通道和感应通道之间的第一间隙、相邻导电区域之间的第二间隙，与彩膜层中黑矩阵的位置相对应，黑矩阵用于吸收从第一间隙和第二间隙射入并穿透基底的光线。通过本发明的技术方案，能够在保证消影效果同时，无需为彩膜基板添加或减少层结构，从而避免了对彩膜基板的其他性能造成影响。
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公开(公告)号：CN104576761A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201510063966.4
申请日：2015-02-06
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L29/10 , H01L21/336
CPC分类号： H01L29/78696 , H01L21/28158 , H01L21/31144 , H01L27/1288 , H01L29/10 , H01L29/42384 , H01L29/66742 , H01L29/786 , H01L2029/42388 , H01L29/1037
摘要： 本发明提供了一种具有宽长比增加的沟道结构的薄膜晶体管及其制造方法，以及包括该薄膜晶体管的显示基板和显示装置。该薄膜晶体管包括层叠在衬底基板上的栅极、栅极绝缘层和有源层，在有源层中形成有源极区域、漏极区域和沟道区域，其中有源层的面向栅极绝缘层的表面在沟道区域中至少部分地形成有非平面结构，以在沟道区域的宽度方向上形成非平面沟道结构。
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公开(公告)号：CN110176484A
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201910561419.7
申请日：2019-06-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/32 , G02F1/1333 , G06K9/00
摘要： 本发明实施例提供一种显示装置，涉及显示技术领域，在显示阶段，可提高多个纹路识别单元的寿命。该显示装置具有显示区，显示区包括纹路识别区；纹路识别区包括多个子像素区域和非子像素区域；显示装置包括发光结构、设置于发光结构出光侧的第一调光结构和多个间隔设置的纹路识别单元，多个纹路识别单元位于第一调光结构背离发光结构一侧；多个纹路识别单元位于非子像素区域；第一调光结构包括第一调光部和第二调光部，第一调光部位于子像素区域，第二调光部位于非子像素区域，纹路识别单元在发光结构上的正投影与所第二调光部在发光结构上的正投影重叠；在纹路检测阶段，至少第二调光部透光；在显示阶段，第一调光部透光，第二调光部遮光。
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