Invention Grant
- Patent Title: 具有穿衬底通孔和背垫金属的半导体晶片以及其制造方法
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Application No.: CN201610579338.6Application Date: 2016-07-21
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Publication No.: CN106373890BPublication Date: 2020-12-25
- Inventor: 托马斯·E·伍德
- Applicant: 恩智浦美国有限公司
- Applicant Address: 美国德克萨斯州
- Assignee: 恩智浦美国有限公司
- Current Assignee: 恩智浦美国有限公司
- Current Assignee Address: 美国德克萨斯州
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 倪斌
- Priority: 14/808,210 2015.07.24 US
- Main IPC: H01L21/48
- IPC: H01L21/48 ; H01L23/00 ; H01L23/13 ; H01L23/538
Abstract:
半导体晶片的实施例包括半导体衬底、多个穿衬底通孔(TSV)以及导电层。这些TSV在第一衬底表面与第二衬底表面之间延伸。这些TSV包括各具有在第一方向上对准的主轴线的第一子组的沟槽通孔,以及各具有在第二不同方向上对准的主轴线的第二子组的沟槽通孔。这些TSV在该衬底的对准区中形成对准图案。该导电层直接连接到该第二衬底表面且连接到这些TSV的第一端。将这些TSV用于对准,该导电层可被图案化以使得该导电层的一部分直接耦合到这些TSV,并且因此该导电层包括至少一个导电材料空隙(例如,与在该第一衬底表面处的无源组件对准)。
Public/Granted literature
- CN106373890A 具有穿衬底通孔和背垫金属的半导体晶片以及其制造方法 Public/Granted day:2017-02-01
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IPC分类: