发明公开
摘要:
本发明属于磁控溅射领域,针对靶材散热技术,特别涉及一种溅射靶材自循环冷却装置。该装置包括靶材和散热结构,靶材采用合成射流方法降温,靶材对接密封在金属阴极上端,合成射流发生器固定在合成射流腔体内部,产生间歇射流气体,射流气体由合成射流腔体储存,沿喷嘴喷出,喷出的射流气体冲击靶材内侧肋片达到降温作用,升温后的气体进入散热通道,经降温的气体重新回到合成射流腔体循环使用。
公开/授权文献
- CN106399953B 一种溅射靶材自循环冷却装置 公开/授权日:2018-12-18
IPC分类: