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发明公开
CN106406021A 保护膜以及包括该保护膜的光掩模组件 有权

保护膜以及包括该保护膜的光掩模组件
摘要：
本公开提供了保护膜以及包括该保护膜的光掩模组件。一种保护膜包括保护膜隔膜，该保护膜隔膜包括多孔膜。该多孔膜包括多个纳米线，该多个纳米线彼此交叉地布置以形成网状结构。光掩模组件包括保护膜和光掩模，其中保护膜被固定到光掩模的表面。
摘要（英）：

The disclosure provides a pellicle and a photomask assembly including the same. The pellicle includes a pellicle membrane, which includes a porous thin film. The porous thin film includes a plurality of nanowires, which are arranged across one another to form a net structure. The photomask assembly includes the pellicle and a photomask, wherein the pellicle is fixed to a surface of the photomask.

公开/授权文献
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