发明公开
CN106442585A 背散射辐射成像系统
审中-实审
- 专利标题: 背散射辐射成像系统
- 专利标题(英): Back scattering radiation imaging system
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申请号: CN201610900967.4申请日: 2016-10-17
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公开(公告)号: CN106442585A公开(公告)日: 2017-02-22
- 发明人: 曹艳锋 , 王少锋 , 王彦华 , 胡晓伟 , 梁志超 , 毛晓燕 , 高超
- 申请人: 北京君和信达科技有限公司
- 申请人地址: 北京市西城区新街口外大街8号12幢103号
- 专利权人: 北京君和信达科技有限公司
- 当前专利权人: 北京君和信达科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市西城区新街口外大街8号12幢103号
- 代理机构: 北京展翼知识产权代理事务所
- 代理商 屠长存
- 主分类号: G01N23/203
- IPC分类号: G01N23/203
摘要:
本发明公开了一种背散射辐射成像系统,包括背散射成像装置、屏蔽体以及对中检测装置。其中,背散射成像装置用于对检测区域中的待检测物体进行背散射辐射成像;屏蔽体为用辐射屏蔽材料制成的可移动结构,适于与背光散射成像装置分别设置在检测区域两侧;对中检测装置包括发射部和接收部,分别设置在屏蔽体和背散射成像装置上,设置在背散射成像装置上的发射部或接收部位于背散射成像装置发射成像射线束的位置附近,发射部向预定方向发射对中检测信号。当接收部接收到对中检测信号或接收到对中检测信号的强度大于预定强度阈值时,向背散射成像装置发出对中信号。由此,可以高效地检测该屏蔽体是否正确和有效安装,并提高了辐射成像过程的安全性。