- 专利标题: 等离子体清洗方法、封装方法、功率模块和空调器
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申请号: CN201611062003.3申请日: 2016-11-24
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公开(公告)号: CN106449371B公开(公告)日: 2019-11-12
- 发明人: 黄锦生 , 王新雷 , 冯宇翔
- 申请人: 广东美的制冷设备有限公司
- 申请人地址: 广东省佛山市顺德区北滘镇林港路
- 专利权人: 广东美的制冷设备有限公司
- 当前专利权人: 美垦半导体技术有限公司
- 当前专利权人地址: 400064 重庆市南岸区美家路70号1号厂房
- 代理机构: 北京友联知识产权代理事务所
- 代理商 尚志峰; 汪海屏
- 主分类号: H01L21/02
- IPC分类号: H01L21/02 ; H01L21/48
摘要:
本发明提供了一种等离子体清洗方法、封装方法、功率模块和空调器,其中,等离子体清洗方法包括:采用包括氧气和氩气的混合气体对基板和/或功率模块进行等离子体清洗,其中,氧气的流量范围为0~500sccm,氩气的流量范围为0~200sccm,等离子体清洗过程的射频功率范围为0~1000W,其中,基板和/或功率器件靠近设置于等离子体清洗的腔室内的激励端或地端。通过本发明技术方案,有效地去除了基板上的助焊剂和黏胶等有机物,以及粉尘,使得基线与封装材料之间的结合力提高,降低了基板与封装外壳的接触面的表面应力,因此使得上述功率模块结构稳定,进一步地提高了功率模块的散热性能耐湿热性能和可靠性。
公开/授权文献
- CN106449371A 等离子体清洗方法、封装方法、功率模块和空调器 公开/授权日:2017-02-22
IPC分类: