发明授权
- 专利标题: 显示基板及其制备方法、显示装置
-
申请号: CN201610930682.5申请日: 2016-10-31
-
公开(公告)号: CN106449521B公开(公告)日: 2018-06-15
- 发明人: 孙双 , 彭宽军
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 汪源; 陈源
- 主分类号: H01L21/77
- IPC分类号: H01L21/77 ; H01L27/12
摘要:
本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的底栅结构的低温多晶硅晶体管的制备方法具有较高工艺复杂性和制备成本的问题。本发明的显示基板的制备方法,所述显示基板包括衬底、衬底上的第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管;所述第一薄膜晶体管包括第一有源层,所述第二薄膜晶体管包括第二有源层,所述第二有源层包括中心区域和位于所述中心区域两侧的掺杂区域;所述制备方法包括:通过一次构图工艺形成包括所述第一有源层和所述第二有源层的掺杂区域的图形。
公开/授权文献
- CN106449521A 显示基板及其制备方法、显示装置 公开/授权日:2017-02-22
IPC分类: