发明授权
- 专利标题： 阵列基板及其制作方法、显示装置
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申请号： CN201611094764.7申请日： 2016-12-02
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公开(公告)号： CN106449665B公开(公告)日： 2019-05-14
- 发明人: 曹可 , 杨成绍 , 马骏
- 申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址： 安徽省合肥市新站区胜利路88号
- 专利权人： 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人： 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 安徽省合肥市新站区胜利路88号
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 焦玉恒
- 主分类号： H01L27/12
- IPC分类号： H01L27/12 ; H01L21/77
摘要：
一种阵列基板及其制作方法、显示装置。该阵列基板通过对绝缘层刻蚀出多个第一孔隙结构，可以减小了绝缘层与平坦层的接触面积并使平坦层可在孔隙结构对应的位置释放其内部应力，从而使得绝缘层和平坦层的形变量差异减小，进而可降低发生膜层断裂的几率；另外，多个第一孔隙结构还可以缓冲断裂应力，在断裂时能够利用孔隙结构终止断裂进程，最终将断裂影响降到最低，提高良率。
公开/授权文献
- CN106449665A 阵列基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日：2017-02-22
IPC分类:
