- 专利标题: 采用微波预处理从低品位羟硅铍石中浸出铍的方法
- 专利标题(英): Method for leaching beryllium from low-grade bertrandite through microwave pretreatment
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申请号: CN201610881502.9申请日: 2016-10-10
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公开(公告)号: CN106521192A公开(公告)日: 2017-03-22
- 发明人: 王清良 , 王俊 , 胡鄂明 , 刘建东 , 李乾 , 李会娟
- 申请人: 南华大学
- 申请人地址: 湖南省衡阳市蒸湘区常胜西路28号南华大学核资源学院
- 专利权人: 南华大学
- 当前专利权人: 南华大学
- 当前专利权人地址: 湖南省衡阳市蒸湘区常胜西路28号南华大学核资源学院
- 代理机构: 衡阳市科航专利事务所
- 代理商 邹小强
- 主分类号: C22B35/00
- IPC分类号: C22B35/00 ; C22B3/08
摘要:
采用微波预处理从低品位羟硅铍石中浸出铍的方法,低品位羟硅铍石中BeO为0.2~1.0%,其操作步骤如下:A、破碎球磨:将低品位羟硅铍石破碎后球磨,球磨后羟硅铍石粒度小于200目;B、微波预处理:将浓硫酸与球磨后的羟硅铍石放入搅拌池中混合均匀,浓硫酸与羟硅铍石的质量比为1.4~2:1,再将搅拌混合均匀的羟硅铍石放入微波炉中通过微波加热后保温;C、浸出:将预处理后的羟硅铍石从微波炉中取出放入浸出池中进行常温冷却,当羟硅铍石温度降低至80℃~100℃时,加入自来水进行搅拌浸出,自来水与羟硅铍石质量比为2~5:1;D、固液分离:浸出结束后,进行固液分离,获取铍浸出液,然后用自来水洗涤铍矿渣,自来水与铍矿渣质量比为1~2:1,洗液返回浸出池。
公开/授权文献
- CN106521192B 采用微波预处理从低品位羟硅铍石中浸出铍的方法 公开/授权日:2019-03-29