发明公开
- 专利标题: 一种耐辐照高分子材料及其制备方法和用途
- 专利标题(英): Radiation-resistant high-polymer material as well as preparation method and application thereof
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申请号: CN201611087076.8申请日: 2016-12-01
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公开(公告)号: CN106751158A公开(公告)日: 2017-05-31
- 发明人: 丁雪佳 , 何旺彤 , 张含 , 程志远
- 申请人: 北京化工大学
- 申请人地址: 北京市朝阳区北三环东路15号
- 专利权人: 北京化工大学
- 当前专利权人: 北京化工大学
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区北三环东路15号
- 代理机构: 北京怡丰知识产权代理有限公司
- 代理商 于振强
- 主分类号: C08L27/06
- IPC分类号: C08L27/06 ; C08L91/00 ; C08K13/02 ; C08K5/00 ; C08K5/098 ; C08K3/22 ; C08K5/134 ; C08K5/526
摘要:
本发明涉及一种耐辐照高分子材料及其制备方法和用途,其解决了高分子材料在经高能射线或电子束辐照后,颜色变化仍然较为明显、力学性能下降较大的技术问题,其由如下组分的原料制成:重均分子量为10~20万的基础树脂100重量份;2~7重量份的无机纳米粒子;3~7重量份的主抗氧剂;4~5重量份的辅助抗氧剂;3~7重量份的光稳定剂;以及3~6重量份的紫外线吸收剂。本发明同时公布了其制备方法和用途。本发明可用于耐辐照高分子材料的制备领域。
公开/授权文献
- CN106751158B 一种耐辐照高分子材料及其制备方法和用途 公开/授权日:2019-05-28