发明公开
CN106784117A 一种短波/中波/长波三波段红外探测器的制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种短波/中波/长波三波段红外探测器的制备方法
- 专利标题(英): Method for preparing short wave/medium wave/long wave triple-band infrared detector
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申请号: CN201611252476.X申请日: 2016-12-30
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公开(公告)号: CN106784117A公开(公告)日: 2017-05-31
- 发明人: 郝瑞亭 , 任洋 , 郭杰 , 刘思佳 , 赵其琛 , 王书荣 , 常发冉 , 刘欣星
- 申请人: 云南师范大学
- 申请人地址: 云南省昆明市呈贡区聚贤街768号云南师范大学太阳能研究所
- 专利权人: 云南师范大学
- 当前专利权人: 云南师范大学
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市呈贡区聚贤街768号云南师范大学太阳能研究所
- 主分类号: H01L31/101
- IPC分类号: H01L31/101 ; H01L31/11
摘要:
本发明公开了一种短波/中波/长波三波段红外探测器,其结构包括GaSb衬底、沉积于GaSb衬底上的外延结构、钝化层、金属电极,所述外延结构从下至上依次为Te掺杂的GaSb缓冲层、n型InAs/GaSb超晶格接触层、M型InAs/GaSb/AlSb/GaSb/InAs超晶格空穴阻挡层、p型InAs/GaSb超晶格长波红外吸收层、p型InAs/GaSb超晶格接触层、p型GaSb接触层(缓冲层)、p型InAs/InAsSb超晶格接触层、未掺杂的InAs/InAsSb超晶格中波红外吸收层、n型InAs/InAsSb超晶格接触层、第一n型InAsSb接触层、AlAsSb电子势垒层、非掺杂InAsSb短波红外吸收层、第二n型InAsSb接触层(盖层)。该探测器具有P‑π‑M‑N型InAs/GaSb超晶格、PIN型InAs/InAsSb超晶格和NBN型InAsSb异质结构,具有高探测率、低暗电流、低串扰等优点,可提高红外探测器性能。
公开/授权文献
- CN106784117B 一种短波/中波/长波三波段红外探测器的制备方法 公开/授权日:2018-04-03
IPC分类: