- 专利标题: 转印薄膜及其制造方法和层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置的制造方法
-
申请号: CN201580054494.4申请日: 2015-10-22
-
公开(公告)号: CN106794679B公开(公告)日: 2019-06-11
- 发明人: 后藤英范 , 佐藤守正
- 申请人: 富士胶片株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 富士胶片株式会社
- 当前专利权人: 富士胶片株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 庞东成; 张志楠
- 优先权: 2014-217274 2014.10.24 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/079882 2015.10.22
- 国际公布: WO2016/063962 JA 2016.04.28
- 进入国家日期: 2017-04-07
- 主分类号: B32B27/00
- IPC分类号: B32B27/00 ; B32B27/36 ; B32B33/00 ; G06F3/041 ; G06F3/044
摘要:
本发明提供一种转印薄膜,其在转印中抑制层叠时气泡的混入,且能够形成也可以充分地承受湿热试验的层叠体。另外,本发明提供一种上述转印薄膜的制造方法、使用了上述转印薄膜的层叠体的制造方法、静电电容型输入装置的制造方法及图像显示装置的制造方法。本发明的转印薄膜的特征在于:将临时支撑体、树脂层、覆盖膜以该层结构而包含,当从树脂层剥离了所述覆盖膜时,所述覆盖膜的与树脂层接触的面的依照JIS‑B0601‑2001的表面粗糙度SRz为130nm以下,且SRa为8nm以下。
公开/授权文献
- CN106794679A 转印薄膜及其制造方法、层叠体的制造方法、静电电容型输入装置的制造方法及图像显示装置的制造方法 公开/授权日:2017-05-31