- 专利标题: 一种光衍射器件及其制备方法和三维显示装置
- 专利标题(英): Light diffraction device as well as preparation method and three-dimensional display device thereof
-
申请号: CN201710222207.7申请日: 2017-04-06
-
公开(公告)号: CN106842606A公开(公告)日: 2017-06-13
- 发明人: 邵仁锦 , 浦东林 , 朱鹏飞 , 张瑾 , 朱鸣 , 陈林森
- 申请人: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
- 申请人地址: 江苏省苏州市苏州工业园区苏虹东路北钟南街478号;
- 专利权人: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司,苏州大学
- 当前专利权人: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司,苏州大学
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市苏州工业园区苏虹东路北钟南街478号;
- 代理机构: 苏州华博知识产权代理有限公司
- 代理商 彭益波
- 主分类号: G02B27/42
- IPC分类号: G02B27/42 ; G02B27/46 ; G02B27/22 ; G03F7/20
摘要:
本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米,甚至几十纳米,具有分辨率高,对比度高和视场角大等优势。在此基础上,本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法,即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术,本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势,与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比,本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
公开/授权文献
- CN106842606B 一种光衍射器件及其制备方法和三维显示装置 公开/授权日:2019-04-05