发明公开
- 专利标题: 传感器、光刻设备以及器件制造方法
- 专利标题(英): SENSOR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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申请号: CN201610987008.0申请日: 2013-03-19
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公开(公告)号: CN106873312A公开(公告)日: 2017-06-20
- 发明人: T·劳伦特 , J·H·W·雅各布斯 , H·考克 , Y·范德维基维尔 , J·范德瓦尔 , B·克拿伦 , R·J·伍德 , J·S·C·维斯特尔拉肯 , H·范德里基德特 , E·库伊克尔 , W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 , Y·B·Y·特莱特
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王静
- 优先权: 61/650,260 20120522 US 61/736,264 20121212 US
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明提供了一种用于浸没光刻设备中的传感器、光刻设备和使用浸没光刻设备的器件制造方法。所述传感器包括构件,在传感器的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的最终元件相邻的空间的浸没液体;变换器,配置成将刺激转换为电信号;温度调节装置,配置成使用由冷却剂供给装置所供给的热传递介质进行所述变换器的温度调节;和控制器,配置成控制所述温度调节装置以主动地控制所述变换器的温度。
公开/授权文献
- CN106873312B 传感器、光刻设备以及器件制造方法 公开/授权日:2019-09-06
IPC分类: