发明授权
- 专利标题： 衬底处理设备以及衬底处理方法
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申请号： CN201710019732.9申请日： 2017-01-11
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公开(公告)号： CN107017187B公开(公告)日： 2021-12-14
- 发明人: 李昞日 , 金俊浩 , 赵相铉 , 刘云锺
- 申请人： AP系统股份有限公司
- 申请人地址： 韩国京畿道华城市东滩面东滩产团8便道15-5
- 专利权人： AP系统股份有限公司
- 当前专利权人： AP系统股份有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道华城市东滩面东滩产团8便道15-5
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 杨文娟; 臧建明
- 优先权： 10-2016-0003737 20160112 KR
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67 ; H01L21/673
摘要：
本发明提供一种衬底处理设备以及一种应用于衬底处理设备的衬底处理方法。衬底处理设备包含：腔室，具有用于在其中处理衬底的空间；致动模块，穿过并延伸到腔室中；夹盒模块，安装在致动模块的一侧上、具有至少一个开放侧表面，且具有能够装载多个衬底的空间；以及加热部件，在面向容纳在夹盒模块中的多个衬底中的每一个的多个位置处在第一方向上延伸。应用于衬底处理设备的衬底处理方法可同时除气多个衬底且可在除气期间均匀地加热每一衬底。
公开/授权文献
- CN107017187A 衬底处理设备以及衬底处理方法 公开/授权日：2017-08-04
IPC分类:
