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公开(公告)号：CN118471848A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410168335.8
申请日：2024-02-06
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种将惰性气体注入到衬底上以控制衬底上的氧气浓度的气体注入模块和包含气体注入模块的激光设备。气体注入模块包含：注入块，具有穿过面向彼此的第一表面和第二表面的开口；第一注入部分，安置在注入块的内表面上以将第一气体供应到开口；以及第二注入部分，安置在注入块的第一表面和第二表面中的面向衬底的表面上以朝向衬底注入第二气体。
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公开(公告)号：CN110504187B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN201910360237.3
申请日：2019-04-30
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/324
摘要： 本公开提供一种加热器块、包含加热器块的热处理设备以及应用于其的热处理方法。加热器块包含：灯，在一个方向上延伸；外壳，被配置成容纳灯；容纳部件，安装到外壳的一个表面且包含用于容纳灯的凹部；以及防污染部件，安设到容纳部件以在灯与容纳部件之间的空间中产生气流。提供能够通过使用气流使由异物所引起的容纳部件的污染降到最低的加热器块以及热处理设备和方法。
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公开(公告)号：CN118046682A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202311509821.3
申请日：2023-11-14
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： B41J2/165
摘要： 提供一种清洁喷嘴的印刷喷嘴清洁装置和印刷装置，墨水通过所述喷嘴以非接触方式不正常地排出。印刷喷嘴清洁装置包含：壳体部分，配置成在其一个表面中设置通孔且配置成围绕内部空间，设置在喷嘴头上以排出墨水的喷嘴部分至少部分地插入到所述通孔中；气流引导部分，设置在内部空间中，且具有在第一方向上延伸的管形状和面向通孔的一端；以及排放部分，连接到气流引导部分的另一端以对气流引导部分的内部进行排放。
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公开(公告)号：CN113459634B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202010462720.5
申请日：2020-05-27
申请人： AP系统股份有限公司
摘要： 本公开涉及一种窗面板层压设备和一种窗面板层压方法，窗面板层压设备和窗面板层压方法用于将面板层压到具有至少部分弯曲的部分的覆盖窗。窗面板层压设备包含：附接有覆盖窗的窗附接部件；支撑面板的面板支撑部件；以及用于调整窗附接部件与面板支撑部件之间的间隙的间隙调整部件，其中面板支撑部件包含：将弹力传递到面板的弹性按压部件和包围主体部件且因流体而膨胀的隔膜。
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公开(公告)号：CN108573898B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201810126635.4
申请日：2018-02-07
申请人： AP系统股份有限公司
摘要： 一种气体喷射装置、包括气体喷射装置的衬底加工设施、及使用衬底加工设施来加工衬底的方法。根据本发明实施例的一种气体喷射装置包括：喷射部件，在衬底的宽度方向上设置并对齐在位于所述衬底的外侧的一侧上，且具有多个喷嘴，所述多个喷嘴用于朝所述衬底喷射气体；以及喷射控制单元，用于自动地控制以下中的至少一者：是否多个喷嘴中的每一者均喷射气体，使得通过所述多个喷嘴喷射的所述气体在所述衬底的所述宽度方向上的气体密度分布变为目标气体密度分布类型。因此，根据本发明的实施例，使用多种类型的工艺类型或多种类型的气体密度分布类型使得易于施行所述工艺，且用于调整所述多个喷嘴的开启或关闭操作的时间可缩短。
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公开(公告)号：CN111180367B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202010058649.4
申请日：2016-10-10
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
摘要： 本发明涉及一种利用真空层压的粘结系统，其为硅贯通电极工艺用粘结系统其特征在于，包括：传送模块，其内部设有第一机械臂；设备前端模块，其设置在所述传送模块一侧，通过设备前端模块机械臂对载体晶片及器件晶片进行移送；真空层压模块，其设置在所述传送模块的另一侧，载体晶片通过所述第一机械臂被移送后，在真空状态下对粘合膜和载体晶片进行层压；以及粘结模块，其设置在所述传送模块的又一侧，器件晶片及与粘合膜层压的载体晶片通过所述第一机械臂被移送后，对所述器件晶片和载体晶片进行粘结。
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公开(公告)号：CN116160773A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202211418155.8
申请日：2022-11-14
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： B41J2/165
摘要： 提供一种用于对附着到喷墨头的喷射表面的污染物进行清洁的喷墨头清洁装置。所述喷墨头清洁装置包括：气体喷涂单元，包括具有用于喷涂气体的喷涂孔洞的喷嘴部分且朝向喷墨头的喷射表面喷涂所述气体；以及污染物抽吸单元，包括具有抽吸孔洞的抽吸流动路径，所述抽吸孔洞用于对通过所述气体从喷墨头的喷射表面分离的污染物进行抽吸，且所述污染物抽吸单元抽吸并移除分离的污染物。喷嘴部分相对于喷墨头的喷射表面倾斜，且喷嘴部分的流入孔洞与喷涂孔洞具有彼此不同的大小。
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公开(公告)号：CN115196882A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210371402.7
申请日：2022-04-11
申请人： AP系统股份有限公司
IPC分类号： C03C17/00
摘要： 本发明提供一种用于处理衬底的设备。用于处理衬底的设备包含：腔室；装载平台，安置在腔室内部以在所述装载平台上侧处限定装载和卸载衬底的装载空间；处理平台，安置在腔室内部以限定处理所述处理平台上的衬底的处理空间；传送部分，安装成将衬底从装载空间传送到处理空间；以及光照射部分，安置在处理空间中以将光照射到衬底上，从而抑制或防止在固化衬底上的附接材料时出现衬底缺陷。
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公开(公告)号：CN111129335B
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN201910839560.9
申请日：2019-09-05
申请人： AP系统股份有限公司
摘要： 本发明涉及一种有机发光装置和一种用于制造薄膜包封层的方法，且更具体地说，涉及一种有机发光装置和一种用于制造薄膜包封层的方法，其中无机层和烃类化合物层层合在有机发光层合物上。根据示范性实施例的有机发光装置可包含：有机发光层合物，形成在衬底上；以及薄膜包封层，设置于有机发光层合物上，且在薄膜包封层中无机层和烃类化合物层交替地层合。
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公开(公告)号：CN111617904B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202010082536.8
申请日：2020-02-07
申请人： AP系统股份有限公司
摘要： 本申请提供一种分配设备及分配方法。分配设备包含：载物台，其可水平地移动且具有一个表面，在表面上安放包含用于显示图像的显示区域和安置于显示区域的一侧的非显示区域的显示设备，显示设备；分配单元，包含喷嘴，配置成将用于形成涂布层的材料排放到安放在载物台上的显示设备的非显示区域的弯曲区域；重量测量单元，安置于分配单元的一侧；分配器监测单元，配置成通过使用从分配单元排放且由重量测量单元测量的测试排放量TQdr和待形成的涂布层的目标体积GVcl来确定分配单元的当前排放条件是否适合于实现目标体积GVcl；以及排放驱动单元，配置成控制喷嘴的打开操作和关闭操作且根据分配器监测单元的确定结果来调整分配单元的排放条件。
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