发明授权
- 专利标题: 曝光装置
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申请号: CN201680003247.6申请日: 2016-01-05
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公开(公告)号: CN107077080B公开(公告)日: 2019-04-26
- 发明人: 松冈尚弥 , 渡边智也 , 山根茂树
- 申请人: 株式会社村田制作所
- 申请人地址: 日本京都府
- 专利权人: 株式会社村田制作所
- 当前专利权人: 株式会社村田制作所
- 当前专利权人地址: 日本京都府
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 刘文海
- 优先权: 2015-005583 2015.01.15 JP
- 国际申请: PCT/JP2016/050148 2016.01.05
- 国际公布: WO2016/114178 JA 2016.07.21
- 进入国家日期: 2017-04-17
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G03F9/00 ; H05K3/00
摘要:
本发明提供在对带状的工件实施曝光处理的情况下,无需复杂的工序就能够精度良好地实施曝光处理的曝光装置。曝光装置具备:工件输送机构(20),其输送带状的工件(1);曝光光源(30),其产生曝光光;光掩模(40),其具有在与工件(1)的宽度方向的端部(1a、1b)对置的位置配置的透射窗(42a~42c);拍摄机构(60a~60c),其拍摄透射窗(42a~42c);以及位置调整机构(51、52),其调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系,所述曝光装置构成为:能够根据由拍摄机构(60a~60c)拍摄得到的、透射窗(42a~42c)的位置与从透射窗(42a~42c)识别到的工件(1)的端部(1a、1b)的位置之间的关系,调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系,以使工件(1)与光掩模(40)的位置关系成为目标的位置关系。
公开/授权文献
- CN107077080A 曝光装置 公开/授权日:2017-08-18
IPC分类: