发明授权
- 专利标题: 用于图案化结构中的光学测量的方法和系统
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申请号: CN201580071044.6申请日: 2015-11-02
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公开(公告)号: CN107110638B公开(公告)日: 2018-11-16
- 发明人: 鲍里斯·列万特 , 亚尼尔·海尼克 , 弗拉迪米尔·马恰瓦里亚尼 , 罗伊·科雷特 , 吉拉德·巴拉克
- 申请人: 诺威量测设备股份有限公司
- 申请人地址: 以色列雷霍沃特
- 专利权人: 诺威量测设备股份有限公司
- 当前专利权人: 诺威有限公司
- 当前专利权人地址: 以色列雷霍沃特
- 代理机构: 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 梁丽超; 王红艳
- 优先权: 62/074,041 2014.11.02 US
- 国际申请: PCT/IL2015/051063 2015.11.02
- 国际公布: WO2016/067296 EN 2016.05.06
- 进入国家日期: 2017-06-26
- 主分类号: G01B11/02
- IPC分类号: G01B11/02
摘要:
一种用于确定位于下部分层结构的顶部上的图案化结构的一个或多个参数的数据分析方法和系统。根据本技术,提供包括第一测量数据PMD和第二测量数据Smeas的输入数据,第一测量数据PMD是光谱强度Iλ和相位φ的函数f,PMD=f(Iλ;φ),对应于下部分层结构的复合光谱响应,第二测量数据表示由图案化结构和下部分层结构形成的样本的镜面反射光谱响应。还提供了一般函数F,一般函数描述样本的理论光响应Stheor与图案化结构的建模光响应Smodel和下部分层结构的复合光谱响应PMD之间的关系,使得Stheor=F(Smodel;PMD)。然后利用一般函数比较第二测量数据Smeas和理论光响应Stheor并且确定所关注的顶部结构的参数。
公开/授权文献
- CN107110638A 用于图案化结构中的光学测量的方法和系统 公开/授权日:2017-08-29