用于图案化结构中的光学测量的方法和系统
摘要:
一种用于确定位于下部分层结构的顶部上的图案化结构的一个或多个参数的数据分析方法和系统。根据本技术,提供包括第一测量数据PMD和第二测量数据Smeas的输入数据,第一测量数据PMD是光谱强度Iλ和相位φ的函数f,PMD=f(Iλ;φ),对应于下部分层结构的复合光谱响应,第二测量数据表示由图案化结构和下部分层结构形成的样本的镜面反射光谱响应。还提供了一般函数F,一般函数描述样本的理论光响应Stheor与图案化结构的建模光响应Smodel和下部分层结构的复合光谱响应PMD之间的关系,使得Stheor=F(Smodel;PMD)。然后利用一般函数比较第二测量数据Smeas和理论光响应Stheor并且确定所关注的顶部结构的参数。
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