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公开(公告)号：CN108700465A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680081813.5
申请日：2016-12-15
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
IPC分类号： G01J3/44 , G01N21/956
摘要： 提供一种用于测量图案化结构的特征时使用的方法与系统。该方法利用第一测量数据和第二测量数据的处理，其中，第一测量数据指示在使用所选择的至少一种光学测量方案的测量下从图案化结构获得的至少一个拉曼光谱，所选择的至少一种光学测量方案各自具有与待测量的特征对应的照明和/或采集光条件的预定配置，并且第二测量数据包括在光学关键尺寸(OCD)测量时段中从图案化结构获得的至少一个光谱。处理包括对至少一个拉曼光谱和至少一个OCD光谱应用基于模型的分析并且确定在测量下的图案化结构的特征。
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公开(公告)号：CN105143814A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201480022558.8
申请日：2014-02-20
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/30 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/956 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G03F7/70625
摘要： 提出了一种用于在图案化结构上进行光学测量的方法和系统。该方法包括利用测量点在结构上进行大量的光学测量，该测量点被配置为提供从至少部分覆盖该结构的至少两个不同区域的照明点反射的光的检测。测量包括从至少两个不同区域的所述至少部分反射的光的检测，所检测的光包括从至少两个不同区域的所述至少部分反射的至少两个复合电场的干涉，并因此，表示该结构的相位响应，携带关于该结构的性质的信息。
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公开(公告)号：CN108700524B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN201680081834.7
申请日：2016-12-15
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
发明人： 吉拉德·巴拉克 , 亚尼尔·海尼克 , 约纳坦·奥伦 , 弗拉迪米尔·马恰瓦里亚尼
IPC分类号： G01N21/66
摘要： 呈现一种用于测量图案化结构的一个或多个特征时使用的方法与系统。该方法包括：提供包括指示在使用至少一个所选择的光学测量方案的测量下从图案化结构获得的至少一个拉曼光谱的数据的测量数据，至少一个所选择的光学测量方案各自具有与待测量的特征对应的照明和采集光条件中的至少一个条件的预定配置；处理测量数据，并且针对至少一个拉曼光谱中的每个光谱，确定在测量下的结构的至少一部分内的拉曼贡献效率(RCE)的分布，该分布取决于结构的特征与相应的光学测量方案中的照明和采集光条件中的至少一个条件的预定配置；分析拉曼贡献效率的分布并且确定该结构的特征。
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公开(公告)号：CN107110638B
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201580071044.6
申请日：2015-11-02
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
发明人： 鲍里斯·列万特 , 亚尼尔·海尼克 , 弗拉迪米尔·马恰瓦里亚尼 , 罗伊·科雷特 , 吉拉德·巴拉克
IPC分类号： G01B11/02
CPC分类号： G01N21/956 , G01B11/02 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G01N2201/12
摘要： 一种用于确定位于下部分层结构的顶部上的图案化结构的一个或多个参数的数据分析方法和系统。根据本技术，提供包括第一测量数据PMD和第二测量数据Smeas的输入数据，第一测量数据PMD是光谱强度Iλ和相位φ的函数f，PMD＝f(Iλ；φ)，对应于下部分层结构的复合光谱响应，第二测量数据表示由图案化结构和下部分层结构形成的样本的镜面反射光谱响应。还提供了一般函数F，一般函数描述样本的理论光响应Stheor与图案化结构的建模光响应Smodel和下部分层结构的复合光谱响应PMD之间的关系，使得Stheor＝F(Smodel；PMD)。然后利用一般函数比较第二测量数据Smeas和理论光响应Stheor并且确定所关注的顶部结构的参数。
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公开(公告)号：CN108700524A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680081834.7
申请日：2016-12-15
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
发明人： 吉拉德·巴拉克 , 亚尼尔·海尼克 , 约纳坦·奥伦 , 弗拉迪米尔·马恰瓦里亚尼
IPC分类号： G01N21/66
CPC分类号： G01N21/65 , G01B11/0666 , G01B2210/56 , G01L1/24 , G01N21/658 , G01N21/9501 , G03F7/70625 , H01L22/12
摘要： 呈现一种用于测量图案化结构的一个或多个特征时使用的方法与系统。该方法包括：提供包括指示在使用至少一个所选择的光学测量方案的测量下从图案化结构获得的至少一个拉曼光谱的数据的测量数据，至少一个所选择的光学测量方案各自具有与待测量的特征对应的照明和采集光条件中的至少一个条件的预定配置；处理测量数据，并且针对至少一个拉曼光谱中的每个光谱，确定在测量下的结构的至少一部分内的拉曼贡献效率(RCE)的分布，该分布取决于结构的特征与相应的光学测量方案中的照明和采集光条件中的至少一个条件的预定配置；分析拉曼贡献效率的分布并且确定该结构的特征。
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公开(公告)号：CN112964689A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202110149411.7
申请日：2016-12-15
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
摘要： 提供一种测量图案化结构的一个或多个特征时使用的方法和系统。该方法利用第一测量数据和第二测量数据的处理，其中，第一测量数据指示在使用所选择的至少一种光学测量方案的测量下从图案化结构获得的至少一个拉曼光谱，所选择的至少一种光学测量方案各自具有与待测量的特征对应的照明和/或采集光条件的预定配置，并且第二测量数据包括在光学关键尺寸(OCD)测量会话中从图案化结构获得的至少一个光谱。处理包括对至少一个拉曼光谱和至少一个OCD光谱应用基于模型的分析并且确定在测量下的图案化结构的特征。
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公开(公告)号：CN106461377B
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201580030113.9
申请日：2015-04-12
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
摘要： 本申请提出了一种在测量图案化样品的参数中使用的测量系统。该系统包括：宽带光源；光学系统，被配置为干涉测量系统；检测单元；以及控制单元。干涉测量系统限定具有样品支路和参考支路的照射通道和检测通道，并且被配置为用于在样品支路与参考支路之间引起光程差，参考支路包括参考反射器；检测单元包括被配置为并且能够操作为用于检测由从所述反射器反射的光束和从样品的支撑件传播的光束形成的组合光束、并且生成指示由至少两个光谱干涉特征形成的光谱干涉图案的测量数据。控制单元被配置为并且能够为操作用于接收测量的数据、并且将基于模型的处理应用到光谱干涉图案以确定样品中的图案的一个或多个参数。
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公开(公告)号：CN105143814B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201480022558.8
申请日：2014-02-20
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/30 , G01N21/956
摘要： 提出了一种用于在图案化结构上进行光学测量的方法和系统。该方法包括利用测量点在结构上进行大量的光学测量，该测量点被配置为提供从至少部分覆盖该结构的至少两个不同区域的照明点反射的光的检测。测量包括从至少两个不同区域的所述至少部分反射的光的检测，所检测的光包括从至少两个不同区域的所述至少部分反射的至少两个复合电场的干涉，并因此，表示该结构的相位响应，携带关于该结构的性质的信息。
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公开(公告)号：CN107110638A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580071044.6
申请日：2015-11-02
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
发明人： 鲍里斯·列万特 , 亚尼尔·海尼克 , 弗拉迪米尔·马恰瓦里亚尼 , 罗伊·科雷特 , 吉拉德·巴拉克
IPC分类号： G01B11/02
CPC分类号： G01N21/956 , G01B11/02 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G01N2201/12
摘要： 一种用于确定位于下部分层结构的顶部上的图案化结构的一个或多个参数的数据分析方法和系统。根据本技术，提供包括第一测量数据PMD和第二测量数据Smeas的输入数据，第一测量数据PMD是光谱强度Iλ和相位φ的函数f，PMD＝f(Iλ；φ)，对应于下部分层结构的复合光谱响应，第二测量数据表示由图案化结构和下部分层结构形成的样本的镜面反射光谱响应。还提供了一般函数F，一般函数描述样本的理论光响应Stheor与图案化结构的建模光响应Smodel和下部分层结构的复合光谱响应PMD之间的关系，使得Stheor＝F(Smodel；PMD)。然后利用一般函数比较第二测量数据Smeas和理论光响应Stheor并且确定所关注的顶部结构的参数。
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公开(公告)号：CN108700465B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201680081813.5
申请日：2016-12-15
申请人： 诺威量测设备股份有限公司
IPC分类号： G01J3/44 , G01N21/956
摘要： 提供一种用于测量图案化结构的特征时使用的方法与系统。该方法利用第一测量数据和第二测量数据的处理，其中，第一测量数据指示在使用所选择的至少一种光学测量方案的测量下从图案化结构获得的至少一个拉曼光谱，所选择的至少一种光学测量方案各自具有与待测量的特征对应的照明和/或采集光条件的预定配置，并且第二测量数据包括在光学关键尺寸(OCD)测量时段中从图案化结构获得的至少一个光谱。处理包括对至少一个拉曼光谱和至少一个OCD光谱应用基于模型的分析并且确定在测量下的图案化结构的特征。
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