发明授权
- 专利标题： 有机电子装置的光刻法图案化
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申请号： CN201580053516.5申请日： 2015-07-31
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公开(公告)号： CN107112418B公开(公告)日： 2021-01-15
- 发明人: 约翰·安德鲁·德弗兰科 , 特伦斯·罗伯特·欧图尔
- 申请人： 正交公司
- 申请人地址： 美国纽约州
- 专利权人： 正交公司
- 当前专利权人： 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道龙仁市
- 代理机构： 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 蔡胜有; 高世豪
- 优先权： 62/031,891 2014.08.01 US
- 国际申请： PCT/US2015/043175 2015.07.31
- 国际公布： WO2016/019277 EN 2016.02.04
- 进入国家日期： 2017-03-31
- 主分类号： H01L51/00
- IPC分类号： H01L51/00 ; G03F7/00
摘要：
一种将有机装置图案化的方法，包括：在装置基底上沉积第一有机功能层以形成第一中间结构，所述第一有机功能层具有第一功能如空穴传输或电子传输。所述第一中间结构经含氟聚合物涂覆并在包含氟化溶剂的处理剂中经受处理以形成经处理的中间结构，在所述氟化溶剂中所述含氟聚合物是可溶的。在所述第一有机功能层的至少一部分上沉积第二有机功能层，所述第二有机功能层也具有所述第一功能。
公开/授权文献
- CN107112418A 有机电子装置的光刻法图案化 公开/授权日：2017-08-29
IPC分类:
