发明授权
- 专利标题： 微加工结构的选择性阶梯覆盖
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申请号： CN201680011162.2申请日： 2016-02-19
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公开(公告)号： CN107250033B公开(公告)日： 2020-10-09
- 发明人: M·梅德哈特 , B·莫塔达 , Y·萨布里 , S·纳泽尔 , Y·纳达 , M·萨德克 , B·A·萨达尼
- 申请人： 斯维尔系统
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 斯维尔系统
- 当前专利权人： 斯维尔系统
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 北京市金杜律师事务所
- 代理商 酆迅
- 优先权： 62/119,065 2015.02.20 US
- 国际申请： PCT/US2016/018802 2016.02.19
- 国际公布： WO2016/134329 EN 2016.08.25
- 进入国家日期： 2017-08-18
- 主分类号： B81C1/00
- IPC分类号： B81C1/00
摘要：
具有两个或更多个层级的开口的荫罩实现了微光学工作台设备内的微加工结构的选择性阶梯覆盖。荫罩包括在荫罩的顶面内的第一开口和在荫罩的底面内的第二开口。第二开口与第一开口对准并且具有小于第一开口的第一宽度的第二宽度。第一开口与第二开口之间的交叠部在荫罩内形成孔，通过该孔可以发生微光学工作台设备内的微加工结构的选择性涂覆。
公开/授权文献
- CN107250033A 微加工结构的选择性阶梯覆盖 公开/授权日：2017-10-13