公开(公告)号：CN107250858B

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201680011152.9

申请日：2016-02-19

申请人： 斯维尔系统

发明人： B·A·萨达尼 ,  Y·M·萨布里 ,  M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  M·纳吉 ,  M·萨德克 ,  Y·纳达 ,  K·哈桑

IPC分类号： G02B6/136 ,  G02B6/36 ,  G01B9/02 ,  B81C1/00

摘要： 一种微型光学台器件通过以下工艺来制造，所述工艺提供对所述微型光学台器件的一种或者多种特性和/或所述微型光学台器件中的光学表面的一种或者多种特性的控制。所述工艺包括：蚀刻衬底以形成临时性结构和包括光学元件的永久性结构。所述临时性结构的形状和在所述临时性结构与永久性结构之间的间隙有助于控制所述微型光学台和/或所述微型光学台中的光学表面的特性。所述工艺进一步包括从所述微型光学台器件的光路去除所述临时性结构。

公开(公告)号：CN107250858A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201680011152.9

申请日：2016-02-19

申请人： 斯维尔系统

发明人： B·A·萨达尼 ,  Y·M·萨布里 ,  M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  M·纳吉 ,  M·萨德克 ,  Y·纳达 ,  K·哈桑

IPC分类号： G02B6/136 ,  G02B6/36 ,  G01B9/02 ,  B81C1/00

摘要： 一种微型光学台器件通过以下工艺来制造，所述工艺提供对所述微型光学台器件的一种或者多种特性和/或所述微型光学台器件中的光学表面的一种或者多种特性的控制。所述工艺包括：蚀刻衬底以形成临时性结构和包括光学元件的永久性结构。所述临时性结构的形状和在所述临时性结构与永久性结构之间的间隙有助于控制所述微型光学台和/或所述微型光学台中的光学表面的特性。所述工艺进一步包括从所述微型光学台器件的光路去除所述临时性结构。

公开(公告)号：CN107250033A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201680011162.2

申请日：2016-02-19

申请人： 斯维尔系统

发明人： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  Y·萨布里 ,  S·纳泽尔 ,  Y·纳达 ,  M·萨德克 ,  B·A·萨达尼

IPC分类号： B81C1/00

摘要： 具有两个或更多个层级的开口的荫罩实现了微光学工作台设备内的微加工结构的选择性阶梯覆盖。荫罩包括在荫罩的顶面内的第一开口和在荫罩的底面内的第二开口。第二开口与第一开口对准并且具有小于第一开口的第一宽度的第二宽度。第一开口与第二开口之间的交叠部在荫罩内形成孔，通过该孔可以发生微光学工作台设备内的微加工结构的选择性涂覆。

公开(公告)号：CN107250033B

公开(公告)日：2020-10-09

申请号：CN201680011162.2

申请日：2016-02-19

申请人： 斯维尔系统

发明人： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  Y·萨布里 ,  S·纳泽尔 ,  Y·纳达 ,  M·萨德克 ,  B·A·萨达尼

IPC分类号： B81C1/00

摘要： 具有两个或更多个层级的开口的荫罩实现了微光学工作台设备内的微加工结构的选择性阶梯覆盖。荫罩包括在荫罩的顶面内的第一开口和在荫罩的底面内的第二开口。第二开口与第一开口对准并且具有小于第一开口的第一宽度的第二宽度。第一开口与第二开口之间的交叠部在荫罩内形成孔，通过该孔可以发生微光学工作台设备内的微加工结构的选择性涂覆。