发明公开
- 专利标题: 用于大电阻的亚阈值金属氧化物半导体
- 专利标题(英): Subthreshold metal oxide semiconductor for large resistance
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申请号: CN201580063665.X申请日: 2015-11-06
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公开(公告)号: CN107251429A公开(公告)日: 2017-10-13
- 发明人: M·塔奇万德 , Y·拉亚维 , A·科哈利利
- 申请人: 高通股份有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 高通股份有限公司
- 当前专利权人: 高通股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华; 张宁
- 优先权: 62/089,927 20141210 US 14/642,309 20150309 US
- 国际申请: PCT/US2015/059451 2015.11.06
- 国际公布: WO2016/093991 EN 2016.06.16
- 进入国家日期: 2017-05-23
- 主分类号: H03H11/24
- IPC分类号: H03H11/24 ; H03K5/08 ; H03H1/02
摘要:
本公开的某些方面通常涉及产生大电阻。一个示例性电路通常包括第一晶体管210、220,具有栅极、与电路的第一节点214连接的源极、以及与电路的第二节点216连接的漏极。电路也可以包括连接在第一晶体管的栅极和源极之间的电压限制装置224、226,其中如果正向偏置配置装置以限制第一晶体管的栅极至源极电压以使得第一晶体管操作在亚阈值区域中。电路进一步包括配置用于采用电流偏置电压限制装置的第二晶体管212、222,其中第二晶体管的漏极与第一晶体管的栅极连接,第二晶体管的栅极与第一节点连接,以及第二晶体管的源极与电势连接。
公开/授权文献
- CN107251429B 用于大电阻的亚阈值金属氧化物半导体 公开/授权日:2020-11-03