发明授权
- 专利标题: 自支撑氮化镓层及其制备方法
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申请号: CN201710494721.6申请日: 2017-06-26
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公开(公告)号: CN107316800B公开(公告)日: 2019-12-31
- 发明人: 罗晓菊 , 王颖慧
- 申请人: 镓特半导体科技(上海)有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区泥城镇新城路2号23幢N1128室
- 专利权人: 镓特半导体科技(上海)有限公司
- 当前专利权人: 镓特半导体科技(上海)有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区泥城镇新城路2号23幢N1128室
- 代理机构: 上海光华专利事务所
- 代理商 姚艳
- 主分类号: H01L21/02
- IPC分类号: H01L21/02 ; H01L21/324 ; H01L21/78
摘要:
本发明提供一种自支撑氮化镓层及其制备方法,其中,制备方法至少包括:提供一衬底;于所述衬底上依次形成第一含镓分解层、分解阻挡层、第二含镓分解层、图形化掩膜层,其中,所述图形化掩膜层具有若干个开口;进行热退火,使所述第一含镓分解层和所述第二含镓分解层部分分解重构,以分别形成内部具有若干个第一孔洞的第一分解重构层和第二分解重构层,以及位于所述开口内的氮化镓晶种层;进行热生长,使所述氮化镓晶种层生长,从而于所述图形化掩膜层上形成氮化镓层;进行降温,使所述氮化镓层从所述衬底上自动剥离,以得到所述自支撑氮化镓层。本发明对制备工艺要求较低,并能够实现氮化镓层的快速自剥离,能够获得高成品率的自支撑氮化镓层。
公开/授权文献
- CN107316800A 自支撑氮化镓层及其制备方法 公开/授权日:2017-11-03
IPC分类: