发明公开
CN107357130A 掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板
失效 - 权利终止
- 专利标题: 掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板
- 专利标题(英): Mask plate, lens array, preparation method of lens array and display panel
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申请号: CN201710801909.0申请日: 2017-09-07
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公开(公告)号: CN107357130A公开(公告)日: 2017-11-17
- 发明人: 周刚 , 杨小飞 , 牟勋 , 代科 , 林亚丽 , 孟佳 , 郭明周 , 刘庭良
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 彭久云
- 主分类号: G03F1/54
- IPC分类号: G03F1/54 ; G02B3/00 ; G02F1/29
摘要:
一种掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板。该掩膜板包括至少一个图案单元,图案单元包括透明基板和设置在透明基板上的半透膜,半透膜的透射率在所述图案单元内部至少沿垂直于所述半透膜厚度方向的第一方向上逐渐变化。该透镜阵列包括至少一个透镜单元,该透镜阵列的制备方法包括:使用该掩膜板,通过光刻工艺形成所述透镜阵列,并且所述掩膜板的图案单元与所述透镜单元一一对应。该制备方法工艺简单,成本低廉。该显示面板包括上述透镜阵列,通过透镜阵列对光的折射可以达到调节显示面板视角的技术效果。
公开/授权文献
- CN107357130B 掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板 公开/授权日:2021-04-27