发明公开
- 专利标题: 一种阵列基板及其制作方法和显示装置
- 专利标题(英): Array substrate, manufacturing method of array substrate and display device
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申请号: CN201710795480.9申请日: 2017-09-06
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公开(公告)号: CN107390444A公开(公告)日: 2017-11-24
- 发明人: 姚磊 , 史大为 , 王文涛 , 杨璐 , 徐海峰 , 闫雷 , 王金锋 , 司晓文 , 闫芳 , 薛进进 , 候林 , 李元博 , 郭志轩 , 李晓芳
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 胡影
- 主分类号: G02F1/1362
- IPC分类号: G02F1/1362 ; G03F7/00
摘要:
本发明提供一种阵列基板及其制作方法和显示装置。该阵列基板包括:包括衬底基板,以及设置于所述衬底基板上的栅线和数据线,所述栅线和数据线限定出多个像素区域,所述像素区域中设置有漫反射层,所述漫反射层的朝向所述阵列基板的出光侧的表面凹凸不平。本发明中,设置在阵列基板的像素区域中的漫反射层能够对外界光进行漫反射,从而能够提高具有该阵列基板的显示装置在户外环境下的亮度,改善在户外环境下的显示效果。此外,由于借助外界光提高显示装置的亮度,因而不会增加显示装置的能耗。
公开/授权文献
- CN107390444B 一种阵列基板及其制作方法和显示装置 公开/授权日:2024-03-29
IPC分类: