发明公开
- 专利标题： 覆膜形成用组合物以及使用其的覆膜形成方法
- 专利标题（英）： COMPOSITION FOR FORMING COATING FILM AND METHOD FOR FORMING COATING FILM USING SAME
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申请号： CN201680022579.9申请日： 2016-03-23
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公开(公告)号： CN107532003A公开(公告)日： 2018-01-02
- 发明人: 河户俊二 , 尾崎祐树 , 佐竹昇 , 小林政一 , 远藤弘宪
- 申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- 申请人地址： 卢森堡卢森堡
- 专利权人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- 当前专利权人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- 当前专利权人地址： 卢森堡卢森堡
- 代理机构： 北京三幸商标专利事务所
- 代理商 刘卓然
- 优先权： 2015-086203 20150420 JP
- 国际申请： PCT/EP2016/000500 2016.03.23
- 国际公布： WO2016/169631 EN 2016.10.27
- 进入国家日期： 2017-10-18
- 主分类号： C08L83/16
- IPC分类号： C08L83/16 ; C08K5/5425 ; C09D183/16 ; C08G77/62 ; C08K5/544 ; C08K5/5419 ; C08L83/00
摘要：
本发明提供一种可形成气体阻隔性能优异的覆膜的覆膜形成用组合物和覆膜形成方法。一种覆膜形成用组合物，其特征在于，其包含利用曝光与聚硅氮烷进行反应的特定的硅化合物、聚硅氮烷、以及有机溶剂；一种覆膜形成方法，其包含如下的工序：将该组合物涂布于基板，进行曝光。
