发明公开
- 专利标题: 掩模板、蒸镀掩模板组件、蒸镀设备及掩模板的制作方法
- 专利标题(英): Mask plate, vapor deposition mask plate assembly, vapor deposition equipment and manufacturing method of mask plate
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申请号: CN201711062791.0申请日: 2017-11-02
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公开(公告)号: CN107587106A公开(公告)日: 2018-01-16
- 发明人: 吴建鹏 , 徐鹏 , 杨忠英 , 罗昶 , 李雪萍 , 黄立为 , 于名印 , 冯巧 , 佘建民 , 胡红伟 , 曹英 , 宋德雄 , 辛燕霞 , 周才龙
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 刘伟
- 主分类号: C23C14/04
- IPC分类号: C23C14/04 ; C23C14/24 ; C23C14/12
摘要:
本发明提供了一种掩模板、蒸镀掩模板组件、蒸镀设备及掩模板的制作方法,所述掩模板包括掩模板主体,所述掩模板主体上设有遮挡部和多个开口部;所述掩模板主体包括相背的两个面,其中在所述相背的两个面中至少一个面上的预定区域处设有磁性层。本发明能够改善蒸镀时由于掩模板不平坦而导致的混色、均一性差等不良,提升产品良率。
IPC分类: