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发明公开
CN107614630A 用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物 有权 转让

  • 专利标题： 用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物
  • 专利标题（英）： Insulating protective film formation composition for forming insulating protective film using offset printing
  • 申请号： CN201680026475.5
    申请日： 2016-06-02
  • 公开(公告)号： CN107614630A
    公开(公告)日： 2018-01-19
  • 发明人: 内田博 , 伊藤祐司 , 鸟羽正彦
  • 申请人： 昭和电工株式会社
  • 申请人地址： 日本东京都
  • 专利权人： 昭和电工株式会社
  • 当前专利权人： 株式会社力森诺科
  • 当前专利权人地址： 日本东京都
  • 代理机构： 北京市中咨律师事务所
  • 代理商 马妮楠; 段承恩
  • 优先权： 2015-114722 2015.06.05 JP
  • 国际申请： PCT/JP2016/066433 2016.06.02
  • 国际公布： WO2016/195025 JA 2016.12.08
  • 进入国家日期： 2017-11-07
  • 主分类号： C09D11/033
  • IPC分类号： C09D11/033 ;  B41M1/06 ;  H01B3/30
用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物
摘要：
本发明的课题在于提供在使用可用作绝缘性保护膜的热固性树脂的体系下，固化性树脂向橡皮布中的吸收不成为问题的水平的、用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物。本发明的用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物包含(A)具有交联反应基团的高分子量树脂，其重均分子量大于2×104且为40×104以下；(B)溶解度参数大于8.7、沸点为150℃以上350℃以下的溶剂；和(C)溶解度参数为7.0以上8.7以下、沸点为130℃以上且小于250℃的溶剂。
摘要（英）：

A subject of the invention is to provide an insulating protective film formation composition for forming an insulating protective film using offset printing, wherein, in a system in which a heat-curable resin is used as the insulating protective film, the curable resin is absorbed into a blanket at an insignificant level. The insulating protective film formation composition for forming the insulating protective film using offset printing contains (A) a high-molecular-weight resin having a crosslinking reactive group and having a mass-average molecular weight of greater than 2*104 but not greater than 40*104, (B) a solvent having a solubility parameter of more than 8.7 and having a boiling point of 150-350 DEGC, and (C) a solvent having a solubility parameter of 7.0-8.7 and a boiling pointof 130 DEG C or higher and less than 250 DEG C.

公开/授权文献
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