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    用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物
    1.
    发明授权
    用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物 有权 转让

    公开(公告)号：CN107614630B

    公开(公告)日：2021-03-30

    申请号：CN201680026475.5

    申请日：2016-06-02

    申请人： 昭和电工株式会社

    发明人： 内田博 ,  伊藤祐司 ,  鸟羽正彦

    IPC分类号： C09D11/033 ,  B41M1/06 ,  H01B3/30

    摘要： 本发明的课题在于提供在使用可用作绝缘性保护膜的热固性树脂的体系下，固化性树脂向橡皮布中的吸收不成为问题的水平的、用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物。本发明的用于利用胶版印刷形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组合物包含(A)具有交联反应基团的高分子量树脂，其重均分子量大于2×104且为40×104以下；(B)溶解度参数大于8.7、沸点为150℃以上350℃以下的溶剂；和(C)溶解度参数为7.0以上8.7以下、沸点为130℃以上且小于250℃的溶剂。

    研磨组合物
    3.
    发明授权
    研磨组合物 失效

    公开(公告)号：CN101496143B

    公开(公告)日：2011-04-06

    申请号：CN200780027880.X

    申请日：2007-07-26

    申请人： 昭和电工株式会社

    发明人： 佐藤孝志 ,  高桥浩 ,  岛津嘉友 ,  伊藤祐司

    IPC分类号： H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

    CPC分类号： C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C23F3/06 ,  C23F11/149 ,  H01L21/3212

    摘要： 本发明提供一种同时具有高平坦性和布线金属的表面腐蚀降低作用的研磨组合物。此类研磨组合物含有下述物质：(A)氧化剂；(B)选自氨基酸、碳原子数为8以下的羧酸、和无机酸中的至少一种酸；(C)浓度为0.01质量％以上，并且烷基碳原子数为8个以上的磺酸；(D)浓度为0.001质量％以上，并且烷基碳原子数为8个以上的脂肪酸；和(E)选自吡啶羰基化合物、非离子性水溶性聚合物、2-吡咯烷酮、N-甲基吡咯烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮、芦竹碱、腺嘌呤、N，N’-二异丙基乙二胺、N，N’-二(2-羟基乙基)乙二胺、N，N’-二苄基乙二胺、N，N’-二苯基乙二胺中的至少一种化合物。

    研磨组合物
    4.
    发明公开
    研磨组合物 失效

    公开(公告)号：CN101496143A

    公开(公告)日：2009-07-29

    申请号：CN200780027880.X

    申请日：2007-07-26

    申请人： 昭和电工株式会社

    发明人： 佐藤孝志 ,  高桥浩 ,  岛津嘉友 ,  伊藤祐司

    IPC分类号： H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

    CPC分类号： C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C23F3/06 ,  C23F11/149 ,  H01L21/3212

    摘要： 本发明提供一种同时具有高平坦性和布线金属的表面腐蚀降低作用的研磨组合物。此类研磨组合物含有下述物质：(A)氧化剂；(B)选自氨基酸、碳原子数为8以下的羧酸、和无机酸中的至少一种酸；(C)浓度为0.01质量％以上，并且烷基碳原子数为8个以上的磺酸；(D)浓度为0.001质量％以上，并且烷基碳原子数为8个以上的脂肪酸；和(E)选自吡啶羰基化合物、非离子性水溶性聚合物、2－吡咯烷酮、N－甲基吡咯烷酮、1，3－二甲基－2－咪唑啉酮、芦竹碱、腺嘌呤、N，N’－二异丙基乙二胺、N，N’－二(2－羟基乙基)乙二胺、N，N’－二苄基乙二胺、N，N’－二苯基乙二胺中的至少一种化合物。