- 专利标题: ε氧化铁及其制造方法、磁性涂料和磁记录介质
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申请号: CN201680030678.1申请日: 2016-06-13
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公开(公告)号: CN107635924B公开(公告)日: 2019-11-15
- 发明人: 大越慎一 , 冈俊介 , 生井飞鸟 , 正田宪司
- 申请人: 国立大学法人东京大学 , 同和电子科技有限公司
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 国立大学法人东京大学,同和电子科技有限公司
- 当前专利权人: 国立大学法人东京大学,同和电子科技有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权: 2015-119680 2015.06.12 JP
- 国际申请: PCT/JP2016/067554 2016.06.13
- 国际公布: WO2016/199937 JA 2016.12.15
- 进入国家日期: 2017-11-27
- 主分类号: C01G49/00
- IPC分类号: C01G49/00 ; H01F1/11
摘要:
本发明提供ε氧化铁及其制造方法,所述ε氧化铁是铁元素的一部分被置换元素置换而成的ε氧化铁,其具有10~18nm的平均粒径、矫顽力为14kOe以下并且该粒径的变异系数为40%以下。本发明提供ε氧化铁的制造方法,其特征在于,具有如下工序:使羟基氧化铁粘附作为置换元素的金属,得到粘附有前述金属的羟基氧化铁的工序;用硅氧化物涂覆粘附有前述金属的羟基氧化铁,得到涂覆有前述硅氧化物的羟基氧化铁的工序;和、在氧化性气氛下对涂覆有前述硅氧化物的羟基氧化铁进行热处理的工序,从而制造铁元素的一部分被前述置换元素置换而成的ε氧化铁。
公开/授权文献
- CN107635924A ε氧化铁及其制造方法、磁性涂料和磁记录介质 公开/授权日:2018-01-26
IPC分类: