发明公开
- 专利标题: 薄膜晶体管及其制备方法、电子设备
- 专利标题(英): Thin film transistor, preparation method of, electronic device
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申请号: CN201711021725.9申请日: 2017-10-27
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公开(公告)号: CN107845687A公开(公告)日: 2018-03-27
- 发明人: 李广耀 , 袁广才 , 王东方 , 汪军 , 王庆贺 , 刘宁
- 申请人: 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市新站区工业园内
- 专利权人: 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 合肥鑫晟光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市新站区工业园内
- 代理机构: 北京博思佳知识产权代理有限公司
- 代理商 林祥
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786 ; H01L21/336 ; H01L29/16
摘要:
本发明涉及薄膜晶体管及其制备方法、电子设备,该薄膜晶体管包括衬底及设置在衬底上的有源层,所述有源层由至少两层类石墨烯二维半导体材料制作而成。根据本发明的实施例的薄膜晶体管具有较高的电子迁移率,该TFT具有良好的电学性能。
公开/授权文献
- CN107845687B 薄膜晶体管及其制备方法、电子设备 公开/授权日:2021-10-29
IPC分类: