Invention Grant
- Patent Title: 磁阻效应元件
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Application No.: CN201710917974.XApplication Date: 2017-09-27
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Publication No.: CN107887506BPublication Date: 2020-08-28
- Inventor: 佐佐木智生
- Applicant: TDK株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: TDK株式会社
- Current Assignee: TDK株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- Agent 杨琦; 伍飏
- Priority: 2016-192010 2016.09.29 JP
- Main IPC: H01L43/08
- IPC: H01L43/08 ; H01L43/10
Abstract:
本发明提供一种磁阻效应元件,在作为现有的隧道势垒层的材料或比使用了MgAl2O4的TMR元件更低的RA中,产生较高的MR比。磁阻效应元件的特征在于,具有层叠体,该层叠体按顺序层叠有:基底层、第一铁磁性金属层、隧道势垒层、第二铁磁性金属层,上述基底层由TiN、NbN、TaN、ZrN或它们的混晶构成,上述隧道势垒层由具有尖晶石结构的以下述的组成式(1)表示的化合物构成。(1):AxB2Oy,式中,A为非磁性的二价阳离子,表示选自镁及锌中的1种以上的元素的阳离子,x表示满足0<x≤2的数,y表示满足0<y≤4的数。
Public/Granted literature
- CN107887506A 磁阻效应元件 Public/Granted day:2018-04-06
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IPC分类: