发明授权
- 专利标题: 等离子体处理装置
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申请号: CN201611108634.4申请日: 2016-12-06
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公开(公告)号: CN108063080B公开(公告)日: 2019-12-24
- 发明人: 翁志强 , 蔡陈德 , 丁嘉仁 , 张瀛方
- 申请人: 财团法人工业技术研究院
- 申请人地址: 中国台湾新竹县竹东镇中兴路4段195号
- 专利权人: 财团法人工业技术研究院
- 当前专利权人: 财团法人工业技术研究院
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹县竹东镇中兴路4段195号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 任岩
- 优先权: 105136324 2016.11.08 TW
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32
摘要:
一种等离子体处理装置,包含一上电极及一下电极,上电极包括多个凸柱及多个气孔,多个凸柱凸伸设置于上电极的一面且连接等离子体产生源,多个凸柱环绕一圆心形成多个圈,在每一圈设有至少一凸柱,每一凸柱为导电材质,在上电极设有凸柱面设有介电材质覆盖上电极及多个凸柱;多个气孔分布于多个凸柱之间并连接工艺气体源;下电极具有一承载面用以承载工件,承载面朝向上电极设有凸柱面,下电极为导电材质且其表面包覆有介电材质,下电极被驱动旋转。
公开/授权文献
- CN108063080A 等离子体处理装置 公开/授权日:2018-05-22