- 专利标题: 等离子体产生装置及使用空间分辨等离子体处理制造图案化器件的方法
- 专利标题(英): Plasma generating apparatus and method of manufacturing patterned devices using spatially resolved plasma processing
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申请号: CN201680049842.3申请日: 2016-08-30
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公开(公告)号: CN108140529A公开(公告)日: 2018-06-08
- 发明人: 埃里克·约翰逊 , 巴斯蒂安·布吕诺 , 佩雷·罗加·I·卡巴罗卡斯 , 帕维尔·布尔金 , 纳达·哈巴卡
- 申请人: 道达尔股份有限公司 , 巴黎综合理工大学 , 国立科学研究中心
- 申请人地址: 法国库尔布瓦
- 专利权人: 道达尔股份有限公司,巴黎综合理工大学,国立科学研究中心
- 当前专利权人: 道达尔股份有限公司,巴黎综合理工大学,国立科学研究中心
- 当前专利权人地址: 法国库尔布瓦
- 代理机构: 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 陈鹏; 房岭梅
- 优先权: 15306338.3 2015.08.31 EP
- 国际申请: PCT/EP2016/070421 2016.08.30
- 国际公布: WO2017/037064 EN 2017.03.09
- 进入国家日期: 2018-02-27
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32 ; H01L31/18 ; C23C14/04 ; C23C16/509
摘要:
本发明涉及用于制造具有图案化层的器件的等离子体产生装置,其包括放置在等离子体反应器室中的第一电极组件(1)和第二电极组件(2)、用于在第一电极组件(1)和第二电极组件(2)之间产生电压差的电源(6)。根据本发明,第一电极组件(1)包括多个突起(11)和多个凹部(12、13、14、15、16、17、18),突起(11)和凹部(12、13、14、15、16、17、18)被形成尺寸并设置在距离所述基板(5)的表面(51)的相应距离(D1、D2)处,以产生选择性地位于所述第二电极组件(2)和所述多个凹部(12、13、14、15、16、17、18)之间或在所述第二电极组件(2)和所述多个突起(11)之间的多个空间上隔离的等离子体区(21、22)。
公开/授权文献
- CN108140529B 等离子体产生装置及使用空间分辨等离子体处理制造图案化器件的方法 公开/授权日:2019-10-15