发明公开
- 专利标题: 光学掩膜板及基于光学掩膜板的光学掩膜基板的制备方法
- 专利标题(英): Optical masking plate and preparation method for optical masking substrate based on optical masking plate
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申请号: CN201810254408.X申请日: 2018-03-26
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公开(公告)号: CN108255012A公开(公告)日: 2018-07-06
- 发明人: 刘永 , 张尚明 , 马小叶 , 刘国冬 , 张东徽
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京市立方律师事务所
- 代理商 刘延喜
- 主分类号: G03F1/00
- IPC分类号: G03F1/00 ; G02F1/1339
摘要:
本发明实施例提供了一种光学掩膜板及基于光学掩膜板的光学掩膜基板的制备方法。所述光学掩膜板包括:具有指定图案的透光区、以及遮光区;所述指定图案包括能够拼接出至少两种待曝光图案的单元图案;可用于制备多种不同的光学掩膜基板,增加通用性。本发明实施例还提供了一种还提供了一种基于光学掩膜板的光学掩膜基板的制备方法,包括:确定出能够拼接出待曝光图案的单元图案,基于该单元图案周期性地对待曝光膜板进行曝光,直到在所述待曝光基板上形成所述待曝光图案,得到所述光学掩膜基板;通过控制曝光次数,来制备多种待曝光图案的光学掩膜基板,可大大降低生产成本,减少生产资源的浪费。