光学掩膜板及基于光学掩膜板的光学掩膜基板的制备方法
摘要:
本发明实施例提供了一种光学掩膜板及基于光学掩膜板的光学掩膜基板的制备方法。所述光学掩膜板包括:具有指定图案的透光区、以及遮光区;所述指定图案包括能够拼接出至少两种待曝光图案的单元图案;可用于制备多种不同的光学掩膜基板,增加通用性。本发明实施例还提供了一种还提供了一种基于光学掩膜板的光学掩膜基板的制备方法,包括:确定出能够拼接出待曝光图案的单元图案,基于该单元图案周期性地对待曝光膜板进行曝光,直到在所述待曝光基板上形成所述待曝光图案,得到所述光学掩膜基板;通过控制曝光次数,来制备多种待曝光图案的光学掩膜基板,可大大降低生产成本,减少生产资源的浪费。
0/0