发明公开
- 专利标题: 半导体器件和用于形成半导体器件的方法
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申请号: CN201810182957.0申请日: 2014-09-29
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公开(公告)号: CN108281487A公开(公告)日: 2018-07-13
- 发明人: J·G·拉文 , H-J·舒尔策 , R·巴布斯克
- 申请人: 英飞凌科技股份有限公司
- 申请人地址: 德国诺伊比贝尔格
- 专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 德国诺伊比贝尔格
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华; 张宁
- 优先权: 14/040,867 2013.09.30 US
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L29/06 ; H01L21/336
摘要:
一种半导体器件包括绝缘栅极双极晶体管(IGBT)设置。IGBT设置包括侧向设置在单元区域与敏感区域之间的载流子限制减小区域。配置或形成IGBT设置以使得单元区域在IGBT设置的导通状态下具有自由电荷载流子的第一平均密度,载流子限制减小区域在IGBT设置的导通状态下具有自由电荷载流子的第二平均密度,以及敏感区域在IGBT设置的导通状态下具有自由电荷载流子的第三平均密度。自由电荷载流子的第一平均密度大于自由电荷载流子的第二平均密度,并且自由电荷载流子的第二平均密度大于自由电荷载流子的第三平均密度。
公开/授权文献
- CN108281487B 半导体器件和用于形成半导体器件的方法 公开/授权日:2021-03-19
IPC分类: