• 专利标题: 一种多量子阱发光二极管及其制备方法
  • 申请号: CN201810249953.X
    申请日: 2018-03-26
  • 公开(公告)号: CN108365064B
    公开(公告)日: 2019-05-24
  • 发明人: 郭秀丽
  • 申请人: 郭秀丽
  • 申请人地址: 天津市滨海新区中新天津生态城中津大道1402号鲲贝园16号楼2单元1403
  • 专利权人: 郭秀丽
  • 当前专利权人: 浙江亚亚光电科技有限公司
  • 当前专利权人地址: 天津市滨海新区中新天津生态城中津大道1402号鲲贝园16号楼2单元1403
  • 主分类号: H01L33/06
  • IPC分类号: H01L33/06 H01L33/14 H01L33/32 H01L33/46 H01L33/00
一种多量子阱发光二极管及其制备方法
摘要:
本申请提供了一种多量子阱发光二极管及其制备方法,多量子阱有源层包括由下至上依次生长的多个周期的阱层和垒层交替叠置,其中所述阱层由InGaN材料形成,垒层进一步包括第一GaN层、P型AlGaN层、第二GaN层构成的周期结构,第1‑4层垒层包括一个上述周期结构,第5‑8层垒层包括两个上述周期结构,第9至最后的垒层包括三个上述周期结构,本发明提供的垒层结构有效地降低电子溢出,提高空穴注入及传输效率,避免生长缺陷,有效地提高量子阱量子效率,从而提高发光二极管发光效率。
公开/授权文献
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