一种以巯基化合物作为过渡层的涂层制备方法
摘要:
一种以巯基化合物作为过渡层的涂层制备方法,属于等离子体技术领域,该方法中,采用含巯基的薄层作为涂层与基体之间的过渡层。在沉积涂层之前,先以含巯基单体在基体表面沉积一层1‑10nm厚度的薄层。其中,单体一端的巯基与铜、金、镍、环氧树脂等表面发生反应,形成化学健,保持优异的结合性,而单体另一端聚合,且和上层的涂层具有优异的结合性。通过这种沉积过渡层的方法,使得涂层和基体的结合力大大提高。本发明环保性高、沉积温度低、速度更快、涂层结构和成分的可控性强,单体的可选择性强;沉积效率高,得到的有机硅纳米防护涂层致密性显著提高;本发明得到的涂层在不同基体上得到的结合力可提高30‑50%。
公开/授权文献
0/0