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CN108431693A 制造用于光刻设备的表膜的方法、用于光刻设备的表膜、光刻设备、器件制造方法、用于处理表膜的设备和用于处理表膜的方法 有权

制造用于光刻设备的表膜的方法、用于光刻设备的表膜、光刻设备、器件制造方法、用于处理表膜的设备和用于处理表膜的方法
摘要：
披露了制造用于光刻设备的表膜的方法。在一种配置中，该方法包括将至少一个石墨烯层(2)沉积在衬底(6)的平坦表面(4)上。该衬底包括第一衬底部分和第二衬底部分(12)。该方法还包括移除第一衬底部分，以便由所述至少一个石墨烯层形成独立隔膜(14)。该独立隔膜由第二衬底部分支撑。
摘要（英）：

Methods of manufacturing a pellicle for a lithographic apparatus are disclosed. In one arrangement the method comprises depositing at least one graphene layer on a planar surface of a substrate. The substrate comprises a first substrate portion and a second substrate portion. The method further comprises removing the first substrate portion to form a freestanding membrane from the at least one graphene layer. The freestanding membrane is supported by the second substrate portion.

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