-
公开(公告)号：CN115885219A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202180050603.0
申请日：2021-08-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·W·范德伍德 , A·L·克莱因 , Z·S·豪厄林 , I·唐梅兹诺扬 , V·D·希尔德布兰德 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·H·克洛特韦克
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述一种用于光刻设备中的表膜隔膜，所述表膜隔膜的特征在于其组成物在平面内是变化的。还描述一种制造表膜隔膜的方法，所述方法包括以下步骤：a)在衬底上设置牺牲层：b)在所述牺牲层上设置第一材料层；c)在所述第一材料层上设置抗蚀剂层；d)对所述抗蚀剂层进行图案化；e)蚀刻所述第一材料层以形成经图案化的表面；以及f)i)将第二材料的层沉积于所述经图案化的表面上且随后剥离所述第二材料的沉积于经图案化的抗蚀剂层上的部分，或ii)移除其余的抗蚀剂层、将第二材料的层沉积于所述经图案化的表面上并且随后对所述表面进行平坦化。
-
公开(公告)号：CN111836681A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201980018223.1
申请日：2019-02-07
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·库尔干诺娃 , A·J·M·吉斯贝斯 , A·L·克莱因 , 马克西姆·A·纳萨勒维奇 , A·W·诺滕博姆 , M·彼得 , 彼得-詹·范兹沃勒 , D·F·弗莱斯 , S·沃勒布瑞特 , W-P·福尔蒂森
IPC分类号： B01J23/652 , B01J23/883 , B01J23/885 , B01J23/28 , B01J23/30 , B01J27/22 , B01J21/18 , B01J37/02 , B01J35/00 , G03F1/00 , G03F7/20
摘要： 披露了一种催化剂，包括：第一层，所述第一层包括钼；基层；和中间层，其中所述中间层被设置在所述基层与所述第一层之间。也披露了制备催化剂的方法以及用于合成石墨烯的方法、使用本文中所披露的所述催化剂或所述方法而生产的表膜，以及包括这样的膜的光刻设备。
-
公开(公告)号：CN118202303A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202280069982.2
申请日：2022-10-07
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： I·唐梅兹诺扬 , T·W·范德伍德 , J·赖宁克 , T·W·J·范德古尔 , A·L·克莱因 , Z·S·豪厄林 , 保罗·亚历山大·维梅伦 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·H·克洛特韦克 , L·I·J·C·贝格斯
IPC分类号： G03F1/62
摘要： 提供了一种表膜隔膜，包括在硅基基质中的金属硅化物晶体群，其中表膜隔膜具有0.3或更高的发射率。还提供了一种制造表膜隔膜、表膜组件、包括这种表膜隔膜或表膜组件的光刻设备的方法。还描述了这种表膜隔膜、表膜组件或光刻设备在光刻设备或方法中的用途。
-
公开(公告)号：CN110998435B
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN201880050536.0
申请日：2018-06-26
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种制造用于光刻设备的表膜的方法，所述方法包括：使用辐射加热(3)来局部加热所述表膜(4)，且在所述表膜的两侧上同时淀积涂覆材料。还披露了根据这种方法制造的表膜。还披露了在光刻设备中的具有双侧六方氮化硼涂层的多层石墨烯表膜。
-
公开(公告)号：CN110809736B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN201880040335.2
申请日：2018-06-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·F·弗莱斯 , C·K·安德 , A·F·J·德格鲁特 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·J·詹森 , 保罗·詹森 , J·H·克洛特韦克 , P·S·A·克纳彭 , E·库尔干诺娃 , M·P·梅热尔 , W·R·梅金克 , M·A·纳萨莱维奇 , A·W·诺滕博姆 , R·奥尔斯曼 , H·帕特尔 , 玛丽亚·皮特 , G·范德博世 , W·T·A·J·范登艾登 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , W-P·福尔蒂森 , H·J·旺德杰姆 , A·N·兹德拉夫科夫
摘要： 本发明涉及一种表膜组件，所述表膜组件包括表膜框架，所述表膜框架限定表膜所附接到的表面。所述表膜组件包括一个或更多个三维膨胀结构，所述三维膨胀结构允许所述表膜在应力下膨胀。本发明还涉及一种用于图案形成装置的表膜组件，包括用于使得表膜朝向图案形成装置和远离图案形成装置移动的一个或更多个致动器。
-
公开(公告)号：CN118707800A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410921344.X
申请日：2018-11-05
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 彼得-詹·范兹沃勒 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·H·克洛特韦克 , E·库尔干诺娃 , 马克西姆·A·纳萨勒维奇 , A·W·诺滕博姆 , M·彼得 , L·A·斯基梅诺克 , T·W·范德伍德 , D·F·弗莱斯
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/22 , G03F1/38 , H01L21/027
摘要： 用于EUV光刻的隔膜组件以及光谱纯度滤光片或表膜。隔膜组件包括：隔膜，由包括氮化金属硅化物的至少一个层形成；和边界，所述边界保持所述隔膜。
-
公开(公告)号：CN117882006A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202280058114.4
申请日：2022-07-28
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种用于光刻设备的表膜隔膜，其中，所述表膜隔膜包括金属硅化物和增强网络。所述增强网络可以位于金属硅化物层之间。所述增强网络可以是不规则的。所述增强网络包括最大尺寸为高达20微米的窗口。所述增强网络包括平均尺寸为至少5微米的窗口。
-
公开(公告)号：CN108431693A
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201680075231.6
申请日：2016-10-11
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 玛丽亚·皮特 , 埃里克·阿奇里斯·阿贝格 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·H·克洛特韦克 , 马克西姆·A·纳萨勒维奇 , W·T·A·J·范登艾登 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , D·F·弗莱斯 , W-P·福尔蒂森
CPC分类号： G03F7/70958 , G03F1/62 , G03F7/70983 , G21K2201/067
摘要： 披露了制造用于光刻设备的表膜的方法。在一种配置中，该方法包括将至少一个石墨烯层(2)沉积在衬底(6)的平坦表面(4)上。该衬底包括第一衬底部分和第二衬底部分(12)。该方法还包括移除第一衬底部分，以便由所述至少一个石墨烯层形成独立隔膜(14)。该独立隔膜由第二衬底部分支撑。
-
公开(公告)号：CN114930246A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202080092236.6
申请日：2020-12-15
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·W·范德伍德 , V·D·希尔德布兰德 , 因奇·唐梅兹诺扬 , A·J·M·吉斯贝斯 , A·L·克莱因
摘要： 提供了一种用于光刻设备的表膜隔膜，所述隔膜包括基体，所述基体包括分布在其中的多个包含物。还提供了一种制造所述表膜隔膜的方法、包括所述表膜隔膜的光刻设备、用于光刻设备的包括所述隔膜的表膜组件、以及表膜隔膜在光刻设备或方法中的用途。
-
公开(公告)号：CN108431693B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN201680075231.6
申请日：2016-10-11
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 玛丽亚·皮特 , 埃里克·阿奇里斯·阿贝格 , A·J·M·吉斯贝斯 , J·H·克洛特韦克 , 马克西姆·A·纳萨勒维奇 , W·T·A·J·范登艾登 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , D·F·弗莱斯 , W-P·福尔蒂森
摘要： 披露了制造用于光刻设备的表膜的方法。在一种配置中，该方法包括将至少一个石墨烯层(2)沉积在衬底(6)的平坦表面(4)上。该衬底包括第一衬底部分和第二衬底部分(12)。该方法还包括移除第一衬底部分，以便由所述至少一个石墨烯层形成独立隔膜(14)。该独立隔膜由第二衬底部分支撑。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
16 条记录 (耗时 0.026 秒)
